[發明專利]真空及漏率多功能校準裝置有效
| 申請號: | 201610077589.4 | 申請日: | 2016-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN105675208B | 公開(公告)日: | 2018-01-12 |
| 發明(設計)人: | 林瑞初;劉金生;凌波;陳俊華;張兵;陳星;吳傳亮;付香萍;丁軍平;肖永超;馬濤;胡勇才;王立全;牛巖;李曉慶;付增志 | 申請(專利權)人: | 中國航天員科研訓練中心 |
| 主分類號: | G01L27/00 | 分類號: | G01L27/00;G01M3/00 |
| 代理公司: | 北京權泰知識產權代理事務所(普通合伙)11460 | 代理人: | 王道川 |
| 地址: | 100094*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 多功能 校準 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種計量裝置,特別涉及一種真空及漏率多功能校準裝置。
背景技術
真空校準技術及漏率檢測技術在航天、表面、微電子等科研生產中具有重要意義,對于科研或企業生產線需要對真空規、真空漏孔、檢漏儀以及氣體微流量計校準測試。由于真空參數較多,所需的校準裝置種類也較多,如果針對不同的真空參數準備不同的校準裝置,無疑會增加建造校準裝置的總成本,同時也會占用校準實驗室較大的場地空間。對于可以對多種真空規或其他真空測量裝置進行校準的校準裝置而言,由于其功能較多,組件比較多,現有實驗臺或實驗柜等校準檢驗用輔助設施無法滿足此類校準裝置的搭建需求,在現有的校準檢驗用輔助設施上搭建組裝此類校準裝置,會導致組裝好的校準裝置的結構穩定性差,易導致校準用檢測管路受損,如因管道彎折或扭轉導致管壁破裂或者管路堵塞,進而可能導致校準精度下降,甚至無法進行校準。而且現有真空校準裝置中的多數存在功能單一化、校準范圍較窄、校準精度不高的問題,進而使得計量單位不得不建造更多的校準裝置來滿足實際校準需求。
發明內容
有鑒于此,本發明在于提供一種符合國家標準、操作方便、校準數據準確可靠且精度高、檢定效率高并具有較寬的校準范圍的真空及漏率多功能校準裝置,不僅可以對真空規校準,還可以實現對漏孔的校準。
為解決上述問題,本發明采用如下技術方案:真空及漏率多功能校準裝置,其特征在于,包括真空及漏率多功能校準裝置檢定臺、真空及漏率多功能校準裝置控制箱、控制系統和真空及漏率多功能校準系統;
所述真空及漏率多功能校準裝置檢定臺包括安裝架、上面板、側面板和泵體安裝板;所述上面板上設有管路安裝孔以及定位螺孔;所述側面板包括側箱蓋和側箱蓋安裝板,所述側箱蓋安裝板設有側箱蓋安裝槽,所述側箱蓋安裝槽槽底設有側箱蓋安裝孔,所述側箱蓋安裝孔內設有限位擋板,所述側箱蓋設在所述側箱蓋安裝孔內;所述上面板設在所述安裝架的頂部并與所述安裝架固定連接,所述側面板設在所述安裝架的側面并與所述安裝架固定連接,所述泵體安裝板設在所述安裝架的底部并與所述安裝架固定連接;
所述真空及漏率多功能校準裝置控制箱包括箱體和控制系統安裝架,所述箱體頂部設有上箱蓋,所述上箱蓋上沿周向設有第一散熱孔,所述箱體側面設有第一側面箱蓋、第二側面箱蓋、第三側面箱蓋和第四側面箱蓋,所述第一側面箱蓋設有觀察窗口,所述觀察窗口內設有透明玻璃板,所述箱體箱底下表面四個角上均設有定位支腳和萬向腳輪,所述萬向腳輪通過可調連接件與所述箱體箱底下表面固定連接;所述控制系統安裝架設在所述箱體內;
所述控制系統設在所述箱體內;
所述真空及漏率多功能校準系統包括檢測管路、真空校準分系統、漏率校準分系統、機械泵和分子泵;所述檢測管路包括導氣管、手動隔斷閥V9、手動隔斷閥V10、手動隔斷閥V2、手動隔斷閥V1、電磁隔斷閥V15和電阻規G5;所述手動隔斷閥V9、所述手動隔斷閥V10、所述手動隔斷閥V2、所述手動隔斷閥V1、所述分子泵、所述電磁隔斷閥V15和所述電阻規G5通過導氣管依次連接;所述機械泵依次經過電磁隔斷閥V17和擋油阱與位于所述手動隔斷閥V9和所述電阻規G5之間的所述檢測管路連接導通,所述漏率校準分系統與位于所述手動隔斷閥V9和所述手動隔斷閥V2之間的所述檢測管路連接導通,所述真空校準分系統與位于所述手動隔斷閥V2和所述手動隔斷閥V1之間的所述檢測管路連接導通,位于所述手動隔斷閥V1和所述分子泵之間的所述檢測管路經過微調閥V16與氮氣存儲裝置連接導通。
本發明的有益效果是:
1.本發明的真空及漏率多功能校準裝置檢定臺的四個側面設有的可拆卸側箱蓋便于在檢定臺內部搭建組裝真空及漏率多功能校準裝置的部分組件及管路,如機械真空泵、分子泵以及一些手動閥等,使校準裝置的搭建不會受到單一出入口的限制,使得安裝人員有足夠大的活動空間,從而降低了校準裝置的組裝難度。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國航天員科研訓練中心,未經中國航天員科研訓練中心許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/201610077589.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





