本發明涉及用于抑制牙石形成的口腔用組合物，該組合物包含陰離子型金屬離子封閉劑和陽離子型高分子，具體涉及在刷牙過程中由于磷酸鹽類陰離子金屬離子封閉劑和聚季銨鹽類陽離子高分子形成凝聚層并附著于牙齒表面，使形成牙石的抑制成分的陰離子類金屬離子封閉劑在漱口后仍然長時間地殘留在口腔內的口腔用組合物。本發明的用于抑制牙石形成的口腔用組合物能夠有效地防止在牙齒表面上形成牙石，同時能夠維持牙膏的香味，提高牙膏的起泡能力。

技術領域

本發明涉及包含陰離子型金屬離子封閉劑和陽離子型高分子的用于抑制牙石形成的口腔用組合物，具體涉及在刷牙過程中由于磷酸鹽類陰離子金屬離子封閉劑和聚季銨鹽類陽離子高分子形成凝聚層并附著于牙齒表面，使形成牙石的抑制成分的陰離子類金屬離子封閉劑在漱口后仍然能夠長時間殘留在口腔內的口腔用組合物。

背景技術

一般來說，口腔疾病由口腔內存活的各種細菌引發，有害的口腔細菌通過食用從獲得膜上的食物等殘留物進行增殖形成牙菌斑，牙菌斑與唾液或血液中的鈣及鎂等金屬離子結合后鈣化形成牙石。這種牙菌斑和牙石引發牙齦炎、牙周炎等類似的牙齦疾病，更甚會造成牙齒損傷。有規律的刷牙盡管對阻止沉著物的快速形成有幫助，但有規律的刷牙也無法充分地去除牙齒上所有粘著的結石附著物。因此，為了抑制牙菌斑和牙石的形成，物理方面使用研磨劑，化學方面使用抗菌劑及金屬離子封閉劑。

口腔用產品中使用的研磨劑有碳酸鈣、二氧化硅、氫氧化鋁、磷酸鈣、小蘇打與聚乙烯及聚氯乙烯等類似的高分子物質，口腔用產品中使用的抗菌劑有氯化十六烷吡啶、己基二甲基芐基氯化銨(hexalkonium chloride)、苯扎氯銨、地喹氯銨(dequaliniumchloride)、氯己定、三氯生、百里酚、異丙基甲基苯酚及氯化烷基二氨基乙基甘氨酸等，金屬離子封閉劑有焦磷酸鹽、聚磷酸鹽及聚磷酸酯等。

如上所述，為了抑制牙石的形成，主要使用金屬離子封閉劑，當單獨使用金屬離子封閉劑時，若刷完牙漱口，被洗凈，口腔內無殘留，對牙石形成的抑制效果有限。另外，為了提高去除牙石的效能而過量添加金屬離子封閉劑時，會產生刺激，且因令人厭惡的味道等而降低使用感。

因此，本發明人為了找到使牙膏在漱口后仍然使其金屬離子封閉劑能夠長時間地殘留在口腔中的方法，進行深入研究，其結果發現，當口腔用組合物同時含有現有的陰離子型金屬離子封閉劑和陽離子型高分子時，通過陰離子和陽離子間的沉淀反應來形成凝聚層，使牙齒上殘留更多的陰離子類金屬離子封閉劑，確保了對牙石形成的抑制效果，由此完成了本發明。

發明內容

本發明的目的在于提供一種抑制牙石形成的口腔用組合物，由于該組合物含有陰離子型金屬離子封閉劑及陽離子型高分子，誘導它們之間的凝聚，因此，陰離子型金屬離子封閉劑能夠殘留在牙齒表面而抑制牙石的形成。

為了實現上述目的，本發明提供了一種作為有效成分含有陰離子型金屬離子封閉劑及陽離子型高分子的用于抑制牙石形成的口腔用組合物。

本發明的用于抑制牙石形成的口腔用組合物能夠有效地防止在牙齒表面上形成牙石，同時維持牙膏的香味，提高牙膏的起泡能力。

具體實施方式

在沒有其他定義方式的情況下，本說明書所使用的所有技術性及科學性用語等均與本領域技術人員常規理解方式相同。一般而言，本說明書中使用的命名法均為本領域所熟知并且慣用的。

由本發明的試驗例可知，將含有陰離子型金屬離子封閉劑及陽離子型高分子的口腔用組合物，對牙齒模擬物質處理后的結果為：陰離子型金屬離子封閉劑及陽離子型高分子以凝聚層的形態殘留在牙齒表面，從而殘留的陰離子型金屬離子封閉劑表現出抑制牙石形成的效果。

因此，本發明的一個方面涉及作為有效成分含有陰離子型金屬離子封閉劑及陽離子型高分子的用于抑制牙石形成的口腔用組合物，其特征在于，上述陰離子型金屬離子封閉劑及陽離子型高分子間相互反應，在牙齒表面上形成凝聚層。