技術領域

本實用新型涉及冶金技術領域，具體涉及一種新型真空系統。

背景技術

對于高沸點，熱敏性以及極易氧化的物料而言，短程蒸餾是理想的選擇，短程蒸餾是一種在高真空條件下，在加熱面上被加熱的物料在盡可能短的距離達到冷凝面冷凝，當加熱面與冷凝的距離小于或等于操作真空和溫度下的被加熱分子的平均自由行程時，該蒸餾過程也稱為分子蒸餾。它具有蒸餾溫度低、蒸餾真空度高，受熱時間短的優點。現有真空系統還存在容易造成真空油污染、真空度不高、能耗維修成本高、噪聲大等不足。

實用新型內容

為克服上述現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供結構簡單，降低真空油污染、真空度高、維修成本低、噪音小的一種新型真空系統。

為實現上述目的，本實用新型的技術方案是一種新型真空系統，包括真空爐、凈化罐、所述真空爐與凈化罐之間設置有真空球閥，所述凈化罐與第一真空擋板閥相連接，第一真空擋板閥與第二真空擋板閥相連接，第二真空擋板閥與第三真空擋板閥相連接，第三真空擋板閥與第一滑閥泵相連接。

進一步，所述第一真空擋板閥與第四真空擋板閥相連接，第四真空擋板閥與羅茨泵相連接，所述羅茨泵與第二真空擋板閥并聯后通過第三真空擋板閥分別與第一滑閥泵、第二滑閥泵、第三滑閥泵相連接。

進一步，所述真空爐、凈化罐、真空球閥、第一真空擋板閥均設置有2套，各套的第一真空擋板閥相連接。

本實用新型采用上述技術方案的有益效果是：本實用新型結構簡單，降低了真空油污染程度、真空度高、維修成本低、噪音小。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明，但不構成對本實用新型的任何限制。

如圖1所示，為實現上述目的，本實用新型的技術方案是：一種新型真空系統，包括真空爐1、凈化罐2、所述真空爐1與凈化罐2之間設置有真空球閥3，所述凈化罐2與第一真空擋板閥4相連接，所述真空爐1、凈化罐2、真空球閥3、第一真空擋板閥4均設置有2套，各套的第一真空擋板閥4相連接，第一真空擋板閥4與第二真空擋板閥5、第四真空擋板閥10并聯，第四真空擋板閥10與羅茨泵11串聯，第二真空擋板閥5與羅茨泵11并聯后，通過第三真空擋板閥6分別與第一滑閥泵7、第二滑閥泵8、第三滑閥泵9相連接。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。