[實用新型]一種磁控濺射靶屏蔽裝置有效

申請號：	201520298266.9	申請日：	2015-05-11
公開（公告）號：	CN204676145U	公開（公告）日：	2015-09-30
發明（設計）人：	郁哲;孟彬;孔明;吳健;張益欣;周海銘;梁小龍	申請（專利權）人：	昆明理工大學
主分類號：	C23C14/35	分類號：	C23C14/35
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	650093 云***	國省代碼：	云南;53
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種磁控濺射屏蔽裝置
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【權利要求書】：

1.一種磁控濺射靶屏蔽裝置，其特征在于：所述磁控濺射靶屏蔽罩包括磁控濺射靶屏蔽罩（7）、磁控濺射靶屏蔽墊圈（8），磁控濺射靶屏蔽罩（7）安裝在銅冷卻板（5）的側壁上，磁控濺射靶屏蔽墊圈（8）放置在磁控濺射靶屏蔽罩（7）上，開口對準沉積基片（1）；磁控濺射靶（2）與磁控濺射靶屏蔽罩（7）、磁控濺射靶（2）與磁控濺射靶屏蔽墊圈（8）之間上下的距離均為2-3mm，磁控濺射靶屏蔽墊圈（8）的外孔直徑與磁控濺射靶屏蔽罩（7）開孔大小一致，內直徑為25~50mm。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射靶屏蔽裝置，其特征在于：磁控濺射靶屏蔽罩（7）上設有臺階，磁控濺射靶屏蔽墊圈（8）放置在臺階上。

3.根據權利要求1所述的磁控濺射靶屏蔽裝置，其特征在于：所述磁控濺射靶屏蔽罩（7）通過絕緣陶瓷螺紋（6）與陰極裝置鏈接，磁控濺射靶屏蔽罩（7）與銅冷卻板（5）、永磁體（3）上端面之間留有2~5mm間隙。

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