[實用新型]具有高穩定性的EMI貼片式大電流電感線圈有效
| 申請號: | 201520169463.0 | 申請日: | 2015-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN204537820U | 公開(公告)日: | 2015-08-05 |
| 發明(設計)人: | 汪成章 | 申請(專利權)人: | 深圳市邁翔科技有限公司 |
| 主分類號: | H01F27/28 | 分類號: | H01F27/28;H01F27/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 穩定性 emi 貼片式大 電流 電感線圈 | ||
技術領域
本申請涉及電感線圈領域,尤其涉及一種具有高穩定性的EMI貼片式大電流電感線圈。
背景技術
現有的電磁干擾(Electromagnetic?Interference,EMI)器件主要可用于各類超大電流的工業級或航空航天級的機電、太陽能電源轉換器或充電樁電源管理部分。一般,貼片式大電流電感線圈通常是將圓銅線繞制在粉末模壓成型的磁芯上,形成繞組,由于原材料及生產工藝限制,通常這種貼片式大電流電感線圈體積均較小,一般在13mm×13mm×13mm的體積以下,最大電流也在60A左右,最大電感量也只能做到100uH,而且都是采用圓銅線點焊在銅帶上,再進行油壓成型工藝。
發明內容
本申請旨在至少在一定程度上解決上述技術問題之一。
本申請提供一種具有高穩定性的EMI貼片式大電流電感線圈,包括:
????磁芯底座、磁芯蓋體,以及繞組,所述磁芯底座及所述磁芯蓋體中設置有用于容置所述繞組的繞線柱,所述繞組由單股扁平銅線繞制而成,所述磁芯底座上固定有一個彈片假腳,所述彈片假腳與所述繞組電隔離。
進一步地,所述磁芯底座上還設置有兩個焊線腳,所述焊線腳與所述繞組的接線端子相焊接。
進一步地,所述繞組的接線端子直接與外部焊接點相焊接。
進一步地,所述繞組與所述磁芯底座、所述繞組與所述磁芯蓋體、所述磁芯底座與所述磁芯蓋體之間均通過膠粘方式粘合。
本申請的有益效果是:
通過提供一種具有高穩定性的EMI貼片式大電流電感線圈,包括:磁芯底座、磁芯蓋體,以及繞組,磁芯底座及磁芯蓋體中設置有用于容置繞組的繞線柱,繞組由單股扁平銅線繞制而成,磁芯底座上固定有一個彈片假腳,彈片假腳與繞組電隔離。這樣,由于彈片假腳的設計,貼片式大電流電感線圈可牢固地與外部器件相焊接,保證了貼片式大電流電感線圈的穩定性,從而體積可以做大,保證了較大的電流和電感量。
附圖說明
圖1為本申請實施例一的貼片式大電流電感線圈的立體結構示意圖。
圖2為本申請實施例一的貼片式大電流電感線圈的主視圖。
圖3為本申請實施例一的貼片式大電流電感線圈的右視圖。
圖4為本申請實施例一的貼片式大電流電感線圈的分解圖。
具體實施方式
下面詳細描述本申請的實施例,所述實施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的,旨在用于解釋本申請,而不能理解為對本申請的限制。
在本申請的描述中,需要理解的是,術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內”、“外”、“順時針”、“逆時針”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本申請和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本申請的限制。
此外,術語“第一”、“第二”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本申請的描述中,“多個”的含義是兩個或兩個以上,除非另有明確具體的限定。
在本申請中,除非另有明確的規定和限定,術語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術語應做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內部的連通。對于本領域的普通技術人員而言,可以根據具體情況理解上述術語在本申請中的具體含義。
在本申請中,除非另有明確的規定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接觸,也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過它們之間的另外的特征接觸。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下面通過具體實施方式結合附圖對本申請作進一步詳細說明。
實施例一:
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