[發明專利]一種光刻機減振框架有效
| 申請號： | 201510270152.8 | 申請日： | 2015-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN106292196B | 公開（公告）日： | 2018-07-20 |
| 發明（設計）人： | 葛黎黎;朱岳彬;高玉英 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備（集團）股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 機減振 框架 | ||
【說明書】：
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