1.一種分布解析裝置，對具有滿足拉普拉斯方程式的特性的場的分布進行解析，所述分布解析裝置包括：

獲得部，獲得所述場的測量數據，該測量數據是經由傳感器感受區域，按所述傳感器感受區域的每個轉動角度及每個坐標位置獨立地測量的數據，所述傳感器感受區域是以與所述場被測量的測量面垂直的軸為中心，相對地轉動的有界的區域、并且是以該區域轉動的狀態下該區域的規定的位置與所述測量面的格子狀的多個坐標位置的每一個一致的方式，相對地移動的區域、并且是該區域中所述場被合計之后被感受的區域；以及

計算部，利用運算式，根據所述場的測量數據，計算所述場的分布，所述運算式是以表示所述場的分布的對象調和函數和表示所述傳感器感受區域的截面的形狀的形狀函數的合成積，與暫定調和函數相等為條件來導出所述對象調和函數而得到的，所述傳感器感受區域的截面是相對于與所述測量面平行的平面的、有界的所述傳感器感受區域的截面，所述暫定調和函數是利用與所述測量面垂直的方向上的所述傳感器感受區域的大小以及所述場的測量數據，來解所述拉普拉斯方程式而導出的，

所述計算部，利用所述運算式，根據所述場的測量數據，計算所述場的分布，所述運算式中包含以下兩個式的除法運算，即以轉動角度對包含已被傅里葉變換的所述形狀函數與已被傅里葉變換的所述暫定調和函數的乘法運算的式進行積分而得到的式，除以以轉動角度對包含已被傅里葉變換的所述形狀函數的絕對值的平方的式進行積分而得到的式。

2.如權利要求1所述的分布解析裝置，

所述獲得部，獲得作為磁場或電場的所述場的測量數據，

所述計算部，根據所述場的測量數據，計算所述場的分布。

3.如權利要求1所述的分布解析裝置，

所述獲得部，獲得經由所述傳感器感受區域被測量的所述場的測量數據，所述傳感器感受區域是，以與所述測量面垂直的軸為中心，隨著所述場的轉動而相對轉動的區域、并且是移動到所述測量面的處于靜止狀態的所述多個坐標位置的每一個的區域。

4.如權利要求3所述的分布解析裝置，

所述計算部，在(x,y,z)表示轉動的轉動坐標系，(X,Y,Z)表示不轉動的靜止坐標系，θ表示轉動角度，k_x表示轉動坐標系的x方向的波數，k_y表示轉動坐標系的y方向的波數，ξ表示靜止坐標系的X方向的波數，η表示靜止坐標系的Y方向的波數，

[數1]

f~(ξ,η)]]>

表示已被二維傅里葉變換的所述形狀函數，

[數2]

φ~θ(ξ,η,z)]]>

表示已被二維傅里葉變換的所述暫定調和函數的情況下，

將[數3]

∫f~(kxcosθ-kysinθ,kxsinθ+kycosθ)φ~θ(kxcosθ-kysinθ,kxsinθ+kycosθ,z)dθ∫|f~(kxcosθ-kysinθ,kxsinθ+kycosθ)|2dθ]]> 1

作為所述運算式來利用，根據所述場的測量數據，計算所述場的分布。