[發(fā)明專利]防反射膜及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480006497.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-01-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104969093B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-01-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 岸敦史;上野友德;倉(cāng)本浩貴 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日東電工株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02B1/11 | 分類號(hào): | G02B1/11;G02B1/115;B32B7/02;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司72002 | 代理人: | 白麗 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反射 及其 制造 方法 | ||
1.一種防反射膜,其具有基材和自所述基材側(cè)起依次具有的中折射率層、高折射率層及低折射率層,
所述基材的折射率nS、所述中折射率層的折射率nM及所述高折射率層的折射率nH滿足下述式(1):
其中,基材的折射率nS、中折射率層的折射率nM及高折射率層的折射率nH具有nH>nM>nS的關(guān)系,
所述高折射率層的厚度為10nm~25nm,
所述防反射膜的反射色相在CIE-Lab表色系統(tǒng)中為0≤a*≤15、-20≤b*≤0。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防反射膜,其中,所述基材的折射率為1.45~1.65的范圍,所述中折射率層的折射率為1.67~1.78的范圍,所述高折射率層的折射率為2.00~2.60的范圍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防反射膜,其中,所述高折射率層在波長(zhǎng)580nm下的光學(xué)膜厚為λ/8以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防反射膜,其中,所述高折射率層是通過(guò)金屬氧化物或金屬氮化物的濺射而形成的、或者是通過(guò)一面導(dǎo)入氧使金屬氧化一面進(jìn)行濺射而形成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防反射膜,其中,所述中折射率層包含粘合劑樹(shù)脂與分散在所述粘合劑樹(shù)脂中的無(wú)機(jī)微粒。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防反射膜,其中,所述中折射率層是通過(guò)將包含所述粘合劑樹(shù)脂與所述無(wú)機(jī)微粒的中折射率層形成用組合物涂布在所述基材上并進(jìn)行固化而形成的。
7.一種帶有防反射膜的偏振片,其包含權(quán)利要求1所述的防反射膜。
8.一種圖像顯示裝置,其包含權(quán)利要求1所述的防反射膜或權(quán)利要求7所述的帶有防反射膜的偏振片。
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