1.一種環模制粒機轉子潤滑裝置，包括主軸和套接在主軸外側的轉子，在轉子與主軸之間設置有軸承組，在軸承組的兩側設置密封組件，兩側密封組件之間構成了潤滑室，其特征在于：其中一側的密封組件包括與轉子連接的壓蓋、與主軸密封連接的環狀的耦合座，壓蓋嵌置的密封圈與耦合座的外周面密封連接，所述的耦合座底部設置有與潤滑室連通的過油孔，在耦合座的外側套接有與耦合座滑動連接的滑環，滑環內部設置有環狀凹槽，該凹槽與過油孔連通，滑環的底部設置與凹槽相通的油管，油管連接有油位顯示器。

2.根據權利要求1所述的環模制粒機轉子潤滑裝置，其特征在于：所述的轉子設置有與潤滑室相通的油孔，油孔設置有螺塞。

3.根據權利要求1所述的環模制粒機轉子潤滑裝置，其特征在于：所述的耦合座與主軸之間設置有密封圈。

4.根據權利要求1所述的環模制粒機轉子潤滑裝置，其特征在于：所述的耦合座與主軸之間通過設置在主軸上的定位銷定位。

5.根據權利要求1所述的環模制粒機轉子潤滑裝置，其特征在于：所述的滑環內部開設有與過油孔連通的環狀凹槽，在滑環的圓柱面上設置有與凹槽連通的徑向孔。

6.根據權利要求1所述的環模制粒機轉子潤滑裝置，其特征在于：所述的耦合座為環狀，外側設置有外臺階圓柱面，在直徑較小的圓柱面上套接有滑環，滑環與耦合座之間設置有密封圈。

7.根據權利要求6所述的環模制粒機轉子潤滑裝置，其特征在于：所述的滑環內側設置有外臺階圓柱面配合的內臺階面，滑環壓合在耦合座的外側構成兩個接觸的圓柱面，每對接觸的圓柱面之間均設置有密封圈。