1.一種如式A所示化合物的用途：

其特征在于，用于制備具有如下式B所示結構的化合物：

其中，R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₇’、R₉、R₉’、R₁₀、R₁₀’、R₁₂、R₁₃、R₁₄、R₁₅各自獨立地選自下組：H、鹵素、取代或未取代的C1-C10的烷基、取代或未取代的C1-C10的烷氧基、取代或未取代的C6-C10的芳基、取代或未取代的C6-C10的芳基-氧基、取代或未取代的C1-C10的雜芳基、取代或未取代的C1-C10的雜芳基-氧基；且R₃不為H；

或R₇和R₇’、R₉和R₉’、R₁₀和R₁₀’共同構成＝O；

其中，所述的取代指基團上的一個或多個氫原子被選自下組的取代基取代：鹵素、取代或未取代的C1-C10的烷基、取代或未取代的C1-C10的烷基-氧基，取代或未取代的C1-C10的烷基-氨基，取代或未取代的C6-C10芳基，芐基胺、具有1-3個取代基的苯基，所述的取代基選自下組：鹵素、C1-C10的烷基、C1-C10的烷基-氧基；

R₈選自下組：

R₁₁為H；

Y為Br；

表示R構型或S構型；且R₈與式B中的構型是相同的。

2.一種制備式B所示化合物的方法，其特征在于，包括步驟：

在惰性溶劑中，用如式A所示的化合物經Bischler-Napieralski環合反應，再經還原得到如式B所示的化合物，其中，各基團的定義如權利要求1中所述。

3.一種如式A所示的化合物：

其中，R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₇’、R₉、R₉’、R₁₀、R₁₀’、R₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄、R₁₅各自獨立地選自下組：H、鹵素、取代或未取代的C1-C10的烷基、取代或未取代的C1-C10的烷基-氧基，取代或未取代的C6-C10的芳基、取代或未取代的C6-C10的芳基-氧基、取代或未取代的C1-C10的雜芳基、取代或未取代的C1-C10的雜芳基-氧基；且R₃不為H；

或R₇和R₇’、R₉和R₉’、R₁₀和R₁₀’共同構成＝O；

其中，所述的取代指基團上的一個或多個氫原子被選自下組的取代基取代：鹵素、取代或未取代的C1-C10的烷基、取代或未取代的C1-C10的烷基-氧基、取代或未取代的C1-C10的烷基-氨基，取代或未取代的C6-C10芳基，芐基胺、具有1-3個取代基的苯基，所述的取代基選自下組：鹵素、C1-C10的烷基、C1-C10的烷基-氧基；

R₈選自下組：

表示R構型或S構型。