[發(fā)明專利]半球鏡片的精磨裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410274711.8 | 申請日： | 2014-06-19 |
| 公開（公告）號： | CN104044036B | 公開（公告）日： | 2016-11-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張華民;言利宏;言紅平;馬黎均;蘇寶紅 | 申請（專利權(quán)）人： | 丹陽市鑫燁光學(xué)儀器有限公司 |
| 主分類號： | B24B9/14 | 分類號： | B24B9/14;B24B55/02 |
| 代理公司： | 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243 | 代理人： | 沈志海 |
| 地址： | 212325 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 半球 鏡片 裝置 | ||
1.半球鏡片的精磨裝置，其特征在于：采用四套精磨裝置進行研磨，分別為精磨裝置A（1）、精磨裝置B（2）、精磨裝置C（3）和精磨裝置D（4），所述精磨裝置A（1）、精磨裝置B（2）、精磨裝置C（3）和精磨裝置D（4）結(jié)構(gòu)相同，均由立柱（5）、研磨塊（6）和鏡片研磨支架（7）組成，所述研磨塊（6）安裝在所述立柱（5）上，所述鏡片研磨支架（7）安裝在立柱（5）旁，所述鏡片研磨支架（7）的支架頭（8）對準所述研磨塊（6）向下傾斜與水平面呈斜角設(shè)置，所述精磨裝置A（1）、精磨裝置B（2）、精磨裝置C（3）和精磨裝置D（4）所采用的研磨塊（6）材質(zhì)不同，所述研磨裝置A采用的研磨塊（6）為1200號金屬，所述研磨裝置B采用的研磨塊（6）為1500號金屬，所述研磨裝置C采用的研磨塊（6）為1500號樹脂，所述研磨裝置D采用的研磨塊（6）為1800號樹脂，鏡片依次在所述精磨裝置A（1）、精磨裝置B（2）、精磨裝置C（3）和精磨裝置D（4）上進行研磨。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半球鏡片的精磨裝置，其特征在于：所述支架頭（8）與水平面的斜角角度在30°~60°之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半球鏡片的精磨裝置，其特征在于：在每個所述立柱（5）旁還設(shè)置有噴水管（9），所述噴水管（9）的管口對準所述研磨塊（6），在精磨裝置工作時，水流通過所述噴水管（9）噴向所述研磨塊（6）。
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