[發(fā)明專利]頭發(fā)造型裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380023039.9 | 申請日： | 2013-04-23 |
| 公開（公告）號： | CN104507356B | 公開（公告）日： | 2017-12-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | M·A·加賈諾;T·D·摩爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 潔美來有限公司 |
| 主分類號： | A45D1/28 | 分類號： | A45D1/28;A45D1/04;A45D2/00;A45D1/00 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112 | 代理人： | 麥善勇,張?zhí)焓?/td> |
| 地址： | 英國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 頭發(fā) 造型 裝置 | ||
1.一種防止頭發(fā)造型裝置的單面陶瓷加熱器開裂的方法，其中，該方法包括：
提供具有單面陶瓷加熱器的頭發(fā)造型裝置，其中所述單面陶瓷加熱器具有包括陶瓷層的結(jié)構(gòu)，在所述陶瓷層的第一面上具有導(dǎo)電元件，所述陶瓷層的第二對立面被安裝在加熱層或板的一面并與之熱接觸，其中所述陶瓷層在所述第一面上缺少加熱層或板；以及
在至少兩個連續(xù)加熱階段控制施加到所述陶瓷加熱器的電力，以控制加熱所述加熱層或板至所期望的操作溫度；
其中在第一加熱階段所述加熱層或板的溫度上升并趨向拐點溫度，并且在第二加熱階段所述加熱層或板的溫度上升超過所述拐點溫度；以及
其中所述控制包括在所述第一加熱階段控制施加到所述陶瓷加熱器的所述電力，以控制所述加熱層或板的所述溫度達到第一溫度上升速率，以及在所述第二加熱階段控制施加到所述陶瓷加熱器的所述電力，以便以第二溫度上升速率控制所述加熱層或板的所述溫度，所述第二溫度上升速率與所述第一溫度上升速率不同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述第一加熱階段所述控制向所述陶瓷加熱器提供第一電力，并且在所述第二加熱階段所述控制向所述陶瓷加熱器提供第二電力，所述第二電力與所述第一電力不同。
3.一種防止頭發(fā)造型裝置的單面陶瓷加熱器開裂的方法，其中，該方法包括：
提供具有單面陶瓷加熱器的頭發(fā)造型裝置，其中所述單面陶瓷加熱器具有包括陶瓷層的結(jié)構(gòu)，在所述陶瓷層的第一面上具有導(dǎo)電元件，所述陶瓷層的第二對立面被安裝在加熱層或板的一面并與之熱接觸，其中所述陶瓷層在所述陶瓷加熱的所述第一面上缺少加熱層或板；以及
控制施加到所述陶瓷加熱的電力，以在至少兩個連續(xù)加熱階段加熱所述加熱層或板至所期望的操作溫度；其中在第一加熱階段所述控制將控制所述加熱層或板的溫度上升速率趨向第一轉(zhuǎn)換速率，并且其中在隨后的第二加熱階段中所述控制將控制所述加熱層或板的所述溫度上升速率趨向第二低轉(zhuǎn)換速率。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其中，所述控制還包括在所述第一和第二加熱階段之間暫停所述加熱。
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