1.一種利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，包括：

將鋯英砂和氟化物混合后進(jìn)行氟化反應(yīng)，得到氣相四氟化硅；

將所述四氟化硅高溫水解得到納米級(jí)二氧化硅；

對(duì)所述二氧化硅進(jìn)行驟冷結(jié)晶得到顆粒狀的目標(biāo)二氧化硅。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，在所述鋯英砂和所述氟化物混合后形成的混合物中，所述氟化物的質(zhì)量百分含量為10～90%。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，

當(dāng)所述氟化物為固體時(shí)，所述氟化反應(yīng)為煅燒，煅燒溫度為600～1300℃，煅燒時(shí)間為1～12小時(shí)；

當(dāng)所述氟化物為液體時(shí)，所述氟化反應(yīng)的反應(yīng)溫度為80～200℃，反應(yīng)時(shí)間為1～12小時(shí)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，所述四氟化硅高溫水解中所述四氟化硅和水蒸氣的體積比為：1:2～1:100。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，所述高溫水解的水解溫度為：810～1500℃。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，所述驟冷結(jié)晶的冷卻速度為：50～200℃/min；冷卻后溫度處于100～200℃之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用鋯英砂制備SiO2粉末的方法，其特征在于，所述SiO₂的粒徑為10-100納米。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，

在所述對(duì)所述二氧化硅進(jìn)行驟冷結(jié)晶得到顆粒狀的所述二氧化硅之后，所述利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法還包括：

對(duì)顆粒狀的所述二氧化硅依次進(jìn)行聚集、分離、脫酸處理，得到粉末狀二氧化硅。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，所述氟化物包括以下任一種：NaF、NH₄F、氫氟酸、NH₄HF₂、CaF₂和AlF₃；

所述鋯英砂的粒徑小于等于7毫米。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的利用鋯英砂制備SiO₂粉末的方法，其特征在于，

當(dāng)所述氟化物為NH₄F或NH₄HF₂時(shí)，在所述將所述四氟化硅高溫水解得到納米級(jí)二氧化硅之后，所述方法進(jìn)一步包括：對(duì)所述四氟化硅高溫水解后的產(chǎn)物進(jìn)行濃硫酸干燥脫水并除NH₃，得到納米級(jí)二氧化硅和氟化氫氣體。