1.一種測量普朗克常量的實驗設備，包括：

熒光屏（1）、準直管（2）、光電管（3）、濾光片（4）、光闌（5）、磁場發生器（6、7）、衍射光柵（8）、光源（9），其特征在于，

所述光源（9）用于朝向所述光電管（3）發射光；

所述衍射光柵（8）用于對所述光源（9）發出的光進行衍射分光，從而使得具有預定頻率的單色光正對所述光電管（3）的陰極；

所述光闌（5）置于所述衍射光柵（8）和所述光電管（3）之間，用于調節進入所述光電管的光的強度；

所述濾光片（4）置于所述光源（9）所發出的光束的光路中，用于濾除所述光源（3）發出的光中的紫外光；

所述光電管（3）的陰極接收所述光源（9）發出的經過濾的光，并且在所述光的作用下發射出電子；

所述磁場發生器（6、7）用于產生均勻磁場；

所述準直管（2）放置在所述光電管（3）的所述陰極的前方，用于對所述陰極發射的電子進行準直，從而使得所述電子垂直于所述均勻磁場射入所述均勻磁場中；

所述熒光屏（1）平行于所述均勻磁場放置于所述磁場發生器（6、7）的側部，并且所述熒光屏（1）的法線方向與所述電子入射進入磁場的方向平行，此外，所述熒光屏（1）上具有直角坐標網格，所述熒光屏（1）與所述光電管（3）在磁場發生器（6、7）的同一側，從而使得，所述陰極發射的電子在磁場洛倫茲力的作用下能夠經圓周運動而撞擊在所述熒光屏（1）上，并且，當所述熒光屏上有電子撞擊時，所述熒光屏能夠顯示或記錄電子所撞擊位置的坐標。

2.如權利要求1所述的測量普朗克常量的實驗設備，其特征在于，照射在所述光電管的陰極上的光子的能量大于所述陰極中的材料的電子的逸出能。

3.如權利要求1所述的測量普朗克常量的實驗設備，其特征在于，

所述熒光屏（1）上的坐標表示所述電子撞擊在熒光屏（1）上的位置與所述準直管的中心之間的距離，所述坐標網格的坐標原點位于所述準直管（2）的中心點處。

4.如權利要求1所述的測量普朗克常量的實驗設備，其特征在于，

所述熒光屏（1）上的每個坐標基于下面公式與電子動量相關聯，

p＝eBR＝eBΔx/2，

其中，ｐ表示電子動量，e表示電子電荷，B表示磁場強度，Δｘ表示所述電子撞擊在屏幕上的位置與所述準直管的中心之間的距離。

5.如權利要求1所述的測量普朗克常量的實驗設備，其特征在于，

所述熒光屏（1）上的每個坐標基于下面公式與電子動能相關聯，

Ek=12p2c2m0c2=p2c22×0.511=e2B2Δx28×0.511]]>

其中，E_k表示電子動能，e表示電子電荷，B表示磁場強度，Δｘ表示所述電子撞擊在屏幕上的位置與所述準直管的中心之間的距離。