[發(fā)明專(zhuān)利]制備硫酸的設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310322462.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103405997A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高飛;岳煥玲;王鈜艷;劉一鳴;魏甲明;董四祿 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)恩菲工程技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B01D53/18 | 分類(lèi)號(hào): | B01D53/18;C01B17/76 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 李志東 |
| 地址: | 100038*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 硫酸 設(shè)備 | ||
1.一種用于制備硫酸的設(shè)備,其特征在于,包括:
高濃度煙氣供給裝置;
二氧化硫轉(zhuǎn)化裝置,所述二氧化硫轉(zhuǎn)化裝置與高濃度煙氣供給裝置相連,用于將高濃度煙氣中的二氧化硫轉(zhuǎn)化為三氧化硫;
三氧化硫吸收裝置,所述三氧化硫吸收裝置與所述二氧化硫轉(zhuǎn)化裝置相連,用于通過(guò)硫酸吸收三氧化硫獲得硫酸以及含有二氧化硫的制酸尾氣;
吸收裝置,所述吸收裝置中設(shè)置有吸收劑用于吸收對(duì)所述制酸尾氣中的二氧化硫;
解吸裝置,所述解吸裝置與所述吸收裝置相連,用于對(duì)所吸收的二氧化硫進(jìn)行再生,以便獲得高濃度二氧化硫氣體;以及
二氧化硫液化裝置,所述二氧化硫液化裝置與所述解吸裝置相連,用于對(duì)所述高濃度二氧化硫氣體進(jìn)行液化,以便獲得液體二氧化硫。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述高濃度煙氣中二氧化硫的含量為3%-11%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,進(jìn)一步包括低濃度煙氣供給裝置,所述低濃度煙氣供給裝置與所述吸收裝置相連,并且向所述吸收裝置供給低濃度煙氣,以便在所述吸收裝置中對(duì)所述低濃度煙氣進(jìn)行脫硫處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,所述低濃度煙氣中二氧化硫的含量低于1%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,進(jìn)一步包括:
除塵凈化裝置,所述除塵凈化裝置與所述二氧化硫轉(zhuǎn)化裝置相連,用于對(duì)所述高濃度煙氣在輸入二氧化硫轉(zhuǎn)化裝置之前進(jìn)行凈化除塵處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其特征在于,所述二氧化硫液化裝置與選自所述高濃度煙氣供給裝置、二氧化硫轉(zhuǎn)化裝置和所述除塵凈化裝置的至少之一通過(guò)閥門(mén)相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,進(jìn)一步包括二氧化硫濃度監(jiān)控裝置,所述二氧化硫濃度監(jiān)控裝置與所述二氧化硫液化裝置、所述高濃度煙氣供給裝置、二氧化硫轉(zhuǎn)化裝置和所述除塵凈化裝置的至少之一相連。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備,其特征在于,進(jìn)一步包括閥門(mén)控制裝置,所述閥門(mén)控制裝置分別與所述閥門(mén)和所述二氧化硫濃度監(jiān)控裝置相連,用于基于所述二氧化硫濃度監(jiān)控裝置的監(jiān)控結(jié)果,對(duì)所述閥門(mén)進(jìn)行控制。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述吸收劑為二胺類(lèi)吸收劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其特征在于,所述吸收劑為己二胺。
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