技術領域

本發明涉及顯示技術領域，具體地，涉及一種彩膜基板、彩膜基板的制備方法以及顯示裝置。

背景技術

液晶顯示裝置（LCD：Liquid?Crystal?Display）因其體積小、功耗低、無輻射等特點已成為目前平板顯示裝置中的主流產品。液晶顯示裝置包括對盒的陣列基板、彩膜基板，以及背光源，彩膜基板是液晶顯示裝置的重要組成部分，也是影響顯示效果的關鍵組件。

通常，液晶顯示裝置中彩膜基板包括紅綠藍（RGB）三原色彩膜層（Resin）。一方面，背光源發出的光線透過彩膜層后能夠實現圖像的彩色化；另一方面，彩膜層還同時對背光源發出的光線產生色阻，即對背光源發出的光線會有阻礙，使得背光源發出的光線不能完全透過彩膜層，導致光線透過率較低，從而影響液晶顯示裝置的顯示效果。

據研究發現，彩膜層的厚度越薄產生的色阻相應的會越小，所以目前采用的提高光線的透過率的措施主要是，通過降低彩膜層的厚度來提高光的透過率。但是，受目前彩膜層制備工藝的限制，采用這種措施常出現不良產品，例如：因彩膜層的層厚太薄而容易出現斷膠現象，所以彩膜層的層厚只能降低到一定程度，而不能無限制地降低下去，導致光線透過率不能達到理想狀況。

可見，通過降低彩膜層厚度并不能完全解決液晶顯示裝置光線透過率較低的問題。

發明內容

本發明針對現有技術中存在的上述技術問題，提供了一種彩膜基板、彩膜基板的制備方法及顯示裝置。所述彩膜基板通過在彩膜層中設置高透亮部，從而使得彩膜基板能更大限度地提高光線的透過率。

所述彩膜基板包括基板、黑矩陣以及不同顏色的彩膜層，黑矩陣設置在基板上，基板上未被黑矩陣覆蓋的地方形成亞像素區，彩膜層設置在亞像素區內，所述彩膜層包括間隔設置的多個高亮透光部，高亮透光部的光線透過率大于彩膜層其它部分的光線透過率。

優選的，所述高亮透光部為開設在彩膜層中的通孔或者盲孔，通孔或者盲孔均勻設置在彩膜層中。

優選的，所述通孔或者所述盲孔在彩膜層中呈網狀分布，通孔或者盲孔沿其高度方向上的中心線與基板垂直。

優選的，所述通孔或者所述盲孔的橫截面的形狀為正方形或正六邊形。

優選的，正方形或正六邊形的對角線長度范圍為8-12μm。

優選的，所述通孔或者所述盲孔的橫截面的形狀為圓形。

優選的，所述圓形的直徑范圍為8-12μm。

優選的，所述彩膜基板還包括平坦層，平坦層設置在彩膜層的上方，且平坦層填充通孔或者盲孔，平坦層的頂面與基板平行。

優選的，所述彩膜層包括矩陣排列的紅色彩膜層、藍色彩膜層和綠色彩膜層。

本發明還提供一種顯示裝置，包括上述彩膜基板。

本發明提供的彩膜基板及顯示裝置的技術方案中，在彩膜基板的彩膜層中設置有高亮透光部，所述高亮透光部通過降低自身的色阻，使得提高彩膜基板光線的透過率不再需要無限制地降低整個彩膜層的厚度，從而使得彩膜基板在提高光線透過率的同時，不會再出現斷膠現象，同時也改善了顯示裝置的顯示效果。

本發明還提供一種彩膜基板的制備方法，包括采用構圖工藝形成彩膜層以及彩膜層中的高亮透光部的步驟。

優選的，所述高亮透光部為形成在彩膜層上的通孔結構，所述構圖工藝包括：

涂覆樹脂材料層；

采用曝光工藝形成樹脂材料完全保留區域和樹脂材料完全不保留區域；

采用顯影工藝去除樹脂材料不保留區域的樹脂材料層，形成高亮透光部。

優選的，所述高亮透光部為形成在彩膜層上的盲孔結構，所述構圖工藝包括：

涂覆樹脂材料層；

采用半曝光工藝或灰階曝光工藝形成樹脂材料完全保留區域、樹脂材料部分保留區域和樹脂材料完全不保留區域；

采用顯影工藝去除部分保留區域的樹脂材料層，形成高亮透光部。本發明提供的彩膜基板的制備方法通過在形成彩膜層以及彩膜層中的高亮透光部的步驟中采用掩模板對樹脂材料層進行曝光工藝和顯影工藝，從而能相應地制備出彩膜層以及彩膜層中的高亮透光部，所述高亮透光部通過降低自身的色阻，使得彩膜基板光線的透過率大大提高，同時也改善了顯示裝置的顯示效果。

附圖說明

圖1為實施例1中彩膜基板的剖示圖；

圖2為對應圖1中彩膜基板的亞像素區內彩膜層的平面示意圖；

圖3為實施例1彩膜層中高亮透光部為通孔時的曝光示意圖；

圖4為實施例2中彩膜基板的剖示圖；