[發明專利]氣液分離器及制冷循環裝置有效
| 申請號: | 201280007936.6 | 申請日: | 2012-02-02 |
| 公開(公告)號: | CN103348203A | 公開(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發明(設計)人: | 長谷川寬;岡市敦雄;咲間文順;小須田修;奧村拓也 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號: | F25B43/00 | 分類號: | F25B43/00;F25B1/00;F25B1/10;F25B13/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 雒運樸 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分離器 制冷 循環 裝置 | ||
1.一種氣液分離器,其中,具備:
密閉容器,其包括上覆蓋部、筒狀部以及下覆蓋部,所述上覆蓋部在使朝向上方噴射的氣液二相流體擴散的同時對該氣液二相流體朝向下方進行誘導,由此使所述氣液二相流體中所包含的液體附著于內側面而將所述氣液二相流體轉換為包括液體層和富氣層的雙層流,所述筒狀部使所述液體層沿著內周面流下,所述下覆蓋部保持所述液體層而形成儲液部;
引導構件,其配置在所述密閉容器內,在該引導構件與所述上覆蓋部之間形成有流入空間且在該引導構件與所述筒狀部的內周面之間形成有使所述雙層流通過的流通路,并且所述引導構件以使所述富氣層沿著所述筒狀部的內周面流下的方式對所述富氣層進行引導;
第一配管,其以前端向所述流入空間內開口的方式貫通所述下覆蓋部及所述引導構件并進行延伸,且在浸于所述儲液部的部分設有液體出口孔;
第二配管,其以前端向所述流入空間內開口的方式貫通所述下覆蓋部及所述引導構件并進行延伸,且在浸于所述儲液部的部分設有液體出口孔;
氣體出口管,其用于使借助所述液體層的表面張力從所述富氣層中除去了液體而得到的氣體向所述密閉容器的外部流出,
所述第一配管及所述第二配管構成為,無論在哪一方使所述氣液二相流體從所述密閉容器的外部向所述流入空間流入時,另一方都使液面形成在比內部的所述液體出口孔更靠上側的位置且同時使所述儲液部的液體從所述液體出口孔向所述密閉容器的外部流出。
2.如權利要求1所述的氣液分離器,其中,
所述引導構件具有與所述筒狀部的內周面對置且朝向下方擴徑的錐形狀的外周面。
3.如權利要求1或2所述的氣液分離器,其中,
所述引導構件具有朝向下方開口的容器狀的形狀,且所述氣體出口管的前端位于由所述引導構件包圍的空間內。
4.如權利要求3所述的氣液分離器,其中,
所述氣體出口管以使該氣體出口管的前端朝向所述第一配管及所述第二配管中的至少一方而橫向開口的方式貫通所述筒狀部及所述引導構件并進行延伸。
5.如權利要求4所述的氣液分離器,其中,
在所述氣體出口管的前端開口的方向上的、從所述氣體出口管的前端到所述第一配管或者所述第二配管的距離為所述氣體出口管的外徑的0.5倍以上且1.5倍以下。
6.如權利要求3所述的氣液分離器,其中,
所述氣體出口管以使該氣體出口管的前端朝向下方開口的方式貫通所述上覆蓋部及所述引導構件并進行延伸。
7.如權利要求1~6中任一項所述的氣液分離器,其中,
還具備分隔構件,該分隔構件設置成將所述流入空間上下分割,通過在使朝向上方噴射的氣液二相流體擴散的同時對該氣液二相流體朝向下方進行誘導,由此使所述氣液二相流體中所包含的液體附著于內側面而將所述氣液二相流體轉換為液體層和富氣層的雙層流,
所述第一配管及所述第二配管中的任一方貫通所述分隔構件。
8.如權利要求1~6中任一項所述的氣液分離器,其中,
還具備流入隔壁,該流入隔壁將所述流入空間分隔為所述第一配管側和所述第二配管側。
9.如權利要求1~8中任一項所述的氣液分離器,其中,
還具備流出隔壁,該流出隔壁將所述儲液部分隔為所述第一配管側和所述第二配管側。
10.如權利要求1~9中任一項所述的氣液分離器,其中,
所述第一配管及所述第二配管實質上呈直線狀。
11.如權利要求1~10中任一項所述的氣液分離器,其中,
在所述第一配管及所述第二配管的內側分別配設有以能夠沿著軸向滑動的方式與所述第一配管或者所述第二配管嵌合的管狀的可動閥,
所述可動閥通常在重力的作用下位于將所述液體出口孔打開的第一位置,在使所述氣液二相流體通過時,所述可動閥在所述氣液二相流體的作用下被抬起而向將所述液體出口孔堵塞的第二位置移動。
12.如權利要求1~11中任一項所述的氣液分離器,其中,
還具備筒狀的分離構件,該筒狀的分離構件配設在所述流通路的下方且沿著所述筒狀部的內周面,能夠使所述液體層的表面積比該內周面更為擴張。
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