[實用新型]氣化爐分隔支撐盤有效
| 申請號: | 201220721029.5 | 申請日: | 2012-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN203269883U | 公開(公告)日: | 2013-11-06 |
| 發明(設計)人: | 隋建偉;郭慧波;王國峰;葉日新;馮小松 | 申請(專利權)人: | 中國寰球工程公司 |
| 主分類號: | C10J3/72 | 分類號: | C10J3/72 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨;雷電 |
| 地址: | 100012 北京市朝陽區來廣營*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣化 分隔 支撐 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種氣化含碳物質以生成合成氣的氣化爐的分隔支撐盤,具體涉及含碳物質漿態(如,水煤漿、石油焦漿、污泥、廢液等)或粉態(如,粉煤、固體廢棄物、生物質等)進料的氣化爐分隔支撐盤結構。
背景技術
使用氣化爐生產合成氣的技術,通常在相對較高溫度下加壓使含碳物質部分氧化,得到的反應產物包括所希望的合成氣和由無機氧化物以及一定量未被氧化的含碳物質組成的熔融態灰渣。
為將反應產物迅速降溫分離,得到所希望的合成氣,故在反應區7的下部設置激冷區2,使進入氣化爐激冷區2的包含灰渣的合成氣與下降管壁面水浴3以及底部水浴1直接接觸,以便降溫及分離合成氣中的灰渣,為此,在反應區7與激冷區2之間設置分隔板,分隔高熱的反應區7和相對低溫的激冷區2。
由于反應區7與激冷區2間溫度的差異,分隔板將受不均勻分布的應力影響;合成氣在降溫洗滌后也會由于工藝或結構原因,發生帶灰現象,合成氣中灰分會積聚在分隔板的下隔板底部氣流流動性差的局部位置,一則干擾局部溫度測量的靈敏性及準確度,二則也會因積灰造成局部溫度升高,嚴重時會因超溫問題導致氣化爐跳車,制約了氣化爐的長周期穩定運行。
發明內容
本實用新型提供一種氣化爐分隔支撐盤,以解決背景技術中存在的技術問題。
為此,本實用新型的一種氣化爐分隔支撐盤,用于分隔氣化爐的反應區與激冷區,包括圓盤形的上隔板和下隔板,所述上隔板和下隔板中間形成供容納冷卻劑的中空內腔,冷卻劑進口和冷卻劑出口與所述中空內腔相連通。
其中,所述上隔板和下隔板的邊緣通過筒壁連接件連接,中心位置通過附件連接件連接,所述筒壁連接件用于與所述氣化爐連接固定,所述附件連接件用于固定所述氣化爐的下降管。
其中,所述中空內腔內可設導流板。
其中,所述上隔板和下隔板與水平面分別成傾角α和β,α和β的角度不為零。
其中,所述傾角α和β設于水平面上方。
其中,所述傾角α和β設于水平面下方。
其中,所述α等于β。
其中,所述α不等于β。
本實用新型的氣化爐分隔支撐盤,能分隔氣化爐的反應區和激冷區,促進沿氣化爐分隔支撐盤方向溫度均勻分布、避免應力集中,并因氣化爐分隔支撐盤內部的強制冷卻劑的作用,避免了局部溫度升高及超溫現象,保證了氣化爐的長周期穩定運行,達到了有益的技術效果。
附圖說明
圖1是本實用新型裝于氣化爐時的縱向剖視圖;
圖2是本實用新型的結構剖視圖;
圖3是本實用新型另一實施例的結構剖視圖。
附圖標記說明
1-底部水浴;2-激冷區;3-下降管壁面水浴;4-下降管;5-氣化爐出口;6-氣化爐分隔支撐盤;61-下隔板;62-冷卻劑出口;63-附件連接件;64-上隔板;65-導流板;66-筒壁連接件;67-冷卻劑進口;7-反應區。
具體實施方式
為了使本實用新型的形狀、構造以及特點能夠更好地被理解,以下將列舉較佳實施例并結合附圖進行詳細說明。
如圖1所示,所考慮的氣化爐類型,主要包括在氣化劑作用下使含碳物質發生部分氧化作用的反應區7,生成的包含合成氣的熱產出物經下降管4和下降管壁面水浴3導流到底部水浴1中洗滌。經過激冷區2激冷后的合成氣,在通常情況下會攜帶一定量的顆粒物質由氣化爐出口5排出,進入下游工序進一步加工。進入底部水浴1的熔融態灰渣因重力作用逐漸下降沉積在激冷區底部,經收集后的灰渣將被定期排出氣化爐。
氣化爐分隔支撐盤6的主要作用是將反應區7與激冷區2進行物理分隔,使高溫的合成氣在相對封閉的空間內有效反應,維持一定的反應深度;同時,也為激冷區2提供相對封閉的空間,以便反應生成的包含合成氣的熱產出物與水浴充分接觸、降溫并有效分離。
氣化爐分隔支撐盤6的另一作用是為起到導流作用的下降管4及其附件提供支撐作用,以減少激冷區2內起支撐作用的組件,減少故障維修的幾率,維護氣化爐的連續穩定運行。
氣化爐分隔支撐盤6包括圓盤形的上隔板64和下隔板61,所述上隔板64和下隔板61的邊緣通過筒壁連接件66連接,中心位置通過附件連接件63連接。所述筒壁連接件66用以將氣化爐分隔支撐盤6與氣化爐連接固定,所述附件連接件63用以固定氣化爐的下降管4等附件。
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