技術領域

本實用新型涉及半導體材料拋光技術領域，尤其是涉及一種循環水冷過濾裝置。

背景技術

拋光設備尤其是化學機械拋光設備是一種精密加工設備，其拋光過程所需的相對運動由拋光頭和拋光盤之間的相對運動而產生。待拋光工件放在拋光頭內，拋光墊粘貼在拋光盤表面，通過拋光頭對工件施加一定壓力，使工件壓于拋光墊表面，依靠工件和拋光墊之間的相對運動，并借助于拋光液中的磨粒實現對工件表面的精加工。

拋光過程中，由于工件與拋光墊之間的摩擦及拋光液中磨粒的微觀切削作用，將會產生大量的熱，使拋光液溫度升高，故在拋光液的循環使用中，若不對其進行降溫處理將會加速化學機械拋光過程中的化學作用，從而造成化學作用與機械去除作用失衡，會使表面加工質量受到很大影響。另，經加工后的拋光液存在磨削顆粒，若不處理，在直接再次利用過程中這些磨削顆粒也會劃傷加工件表面。

發明內容

本實用新型的目的是克服現有技術中存在的不足，提供一種可帶走拋光過程中產生的熱量和磨削顆粒、保證拋光液循環利用的循環水冷過濾裝置。

按照本實用新型提供的技術方案，所述循環水冷過濾裝置，在機架上固定有水箱、循環水泵、過濾器與球閥，在水箱的上蓋體上開設有拋光液入口，在水箱的底部開設有拋光液出口，所述循環水泵的入液口通過管道與拋光液出口相接，循環水泵的出液口通過管道與過濾器的入液口相接，過濾器的出液口上通過管道連接球閥的入液口，在水箱內設有循環水冷卻機構。

所述循環水冷卻機構由一根冷卻管沿水箱的內壁螺旋繞成。

在機架的底端部安裝有行走輪。

在循環水泵與過濾器之間的管道上設有備用接頭。

本實用新型的有益效果是：在拋光液循環利用過程中利用循環水冷裝置和過濾裝置，帶走拋光液在加工過程中產生的熱量及磨削顆粒，使拋光液可保持恒定溫度對工件表面進行精加工。本實用新型結構簡單、易于實現。

附圖說明

圖1是本實用新型的主視圖。

圖2是本實用新型的俯視圖。

具體實施方式

下面結合具體附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。

如圖所示：該循環水冷過濾裝置，在機架1上固定有水箱2、循環水泵3、過濾器4與球閥5，在水箱2的上蓋體上開設有拋光液入口6，在水箱2的底部開設有拋光液出口7，所述循環水泵3的入液口通過管道與拋光液出口7相接，循環水泵3的出液口通過管道與過濾器4的入液口相接，過濾器4的出液口上通過管道連接球閥5的入液口，在水箱2內設有循環水冷卻機構。

所述循環水冷卻機構由一根冷卻管8沿水箱2的內壁螺旋繞成。

在機架1的底端部安裝有行走輪9。

在循環水泵3與過濾器4之間的管道上設有備用接頭10。

工作時，加工后的拋光液經水箱2的上蓋體上的拋光液入口6流入透明的水箱2，設置于水箱2內壁上的冷卻管8帶走拋光液的多余熱量，將拋光液降溫，再經循環水泵3的作用，拋光液從透明水箱2的拋光液出口7流出，經水管流入過濾器4，將磨削顆粒過濾后的拋光液可再次利用對工件表面進行精加工。