[發(fā)明專利]Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜作為光限幅材料的應(yīng)用有效

申請(qǐng)?zhí)枺?/td>	201210537982.9	申請(qǐng)日：	2012-12-13
公開（公告）號(hào)：	CN102976628A	公開（公告）日：	2013-03-20
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	辜敏;甘平;鮮曉東;鮮學(xué)福	申請(qǐng)（專利權(quán)）人：	重慶大學(xué)
主分類號(hào)：	C03C17/34	分類號(hào)：	C03C17/34
代理公司：	北京同恒源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275	代理人：	霍本俊
地址：	400044 ***	國省代碼：	重慶;85
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摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	te teo sub sio 復(fù)合薄膜作為限幅材料應(yīng)用
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【說明書】：

技術(shù)領(lǐng)域

?本發(fā)明涉及Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜的用途，特別涉及Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜作為光限幅材料的應(yīng)用。

背景技術(shù)

在激光技術(shù)十分發(fā)達(dá)和激光武器日趨成熟的時(shí)代，激光在工業(yè)加工、通信技術(shù)、軍用領(lǐng)域等方面得到廣泛的應(yīng)用，同時(shí)激光對(duì)軍用和民用光學(xué)設(shè)施及人類的眼睛已構(gòu)成了潛在的威脅，激光不可避免地會(huì)對(duì)使用者和光學(xué)元件造成傷害和損害。當(dāng)人們意識(shí)到問題的嚴(yán)重性后便開始研究激光防護(hù)技術(shù)，雖然國內(nèi)外學(xué)者研發(fā)了各種各樣的光學(xué)保護(hù)方法，但相對(duì)而言，光限幅器具有廣譜抗變波長激光的能力，易于加工、響應(yīng)時(shí)間快、能有效降低入射能量且不影響儀器的探測(cè)或圖像處理與傳輸?shù)戎T多優(yōu)勢(shì)，成為極具實(shí)際應(yīng)用價(jià)值的激光防護(hù)器，也成為激光防護(hù)器件和光學(xué)限幅器研究發(fā)展的重點(diǎn)。

光限幅是指當(dāng)激光入射到光限幅材料時(shí)，輸入光能量較弱時(shí)，輸出光能量與輸入光能量呈線性關(guān)系，當(dāng)輸入光能量達(dá)到一定閾值時(shí)，輸出光能量不再隨輸入光能量線性增加，而輸出能量變緩或不再增加，其輸出光能量將保持為常數(shù)。

自1965年J.?P.?Gordon等人首次提出光限幅的概念以來，光限幅理論研究和光限幅材料的發(fā)現(xiàn)成為研究的重點(diǎn)。在20世紀(jì)90年代以前，光限幅材料研究以半導(dǎo)體材料為主體，在上世紀(jì)90年代以后，光限幅材料研究變?yōu)楹蟮摩泄曹楏w系的有機(jī)物為主體，其中無機(jī)光限幅材料具有物理和化學(xué)穩(wěn)定性好、抗老化、易加工、限幅器件結(jié)構(gòu)簡單等特點(diǎn)。B.L.Justus等人對(duì)半導(dǎo)體納米粒子的光限幅效應(yīng)開展研究；L.Tutt等人對(duì)含π共軛體系的有機(jī)物開展了光限幅效應(yīng)研究，發(fā)現(xiàn)富勒烯(C₆₀、C₇₀、C₈₄等材料)具有明顯的光限幅特性，為光限幅研究領(lǐng)域注入新鮮血液。但是碲基材料的光限幅效應(yīng)研究國內(nèi)外報(bào)道還是很少，印度學(xué)者C.S.?Suchand?Sandeep等人對(duì)Te和Ag₂Te納米線的光限幅性質(zhì)開展了研究，發(fā)現(xiàn)Ag₂Te納米線的限幅效果明顯高于Te納米線；國內(nèi)學(xué)者李玉瓊等人對(duì)ZnO-Nb₂O₅-TeO₂:Er₂O₃材料的光限幅特性進(jìn)行了研究，采用傳統(tǒng)的混合退火方法制備摻Er³⁺玻璃材料，采用532nm的皮秒激光器測(cè)量不同入射功率下出射功率的變化情況，發(fā)現(xiàn)入射功率較低時(shí)出射功率和入射功率近似為線性關(guān)系，但是當(dāng)入射功率達(dá)到1.2mW閾值時(shí)，出射功率不再隨入射功率的增加而增加，出射功率趨向于一個(gè)閾值范圍。

從上述的國內(nèi)外研究進(jìn)展和文獻(xiàn)報(bào)道可知，盡管對(duì)碲基材料的光限幅特性研究已有個(gè)別的報(bào)道，但是對(duì)碲基復(fù)合薄膜的光限幅特性鮮有研究報(bào)道。專利號(hào)為201010162549.2的中國專利公開了一種三階非線性光學(xué)性碲基復(fù)合薄膜及其制備方法，該碲基復(fù)合薄膜為SiO₂顆粒之間嵌有TeO₂和/或Te形成的Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)，其制備方法為：對(duì)TeO₂-SiO₂透明復(fù)合溶膠進(jìn)行電化學(xué)誘導(dǎo)生成復(fù)合薄膜，或者TeO₂-SiO₂透明復(fù)合溶膠經(jīng)干燥、磨粉、熱處理以及真空鍍膜等步驟得到復(fù)合薄膜；Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜已知的用途是用于光開關(guān)器件、聲光器件和光放大器等光電子器件。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供了一種Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜的新用途。

本發(fā)明公開了Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜作為光限幅材料的應(yīng)用。

進(jìn)一步，所述Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜為SiO₂顆粒之間嵌有TeO₂和/或Te的復(fù)合薄膜。

進(jìn)一步，所述Te/TeO₂-SiO₂復(fù)合薄膜為TeO₂-SiO₂透明復(fù)合溶膠在-0.1~-1.5V下進(jìn)行恒電位電化學(xué)誘導(dǎo)生成的復(fù)合薄膜。

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