[發(fā)明專利]非球面光學零件短流程加工方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210337926.0 | 申請日: | 2012-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN102837228A | 公開(公告)日: | 2012-12-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 胡皓;石峰;王寅;戴一帆;彭小強;宋辭 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍國防科學技術大學 |
| 主分類號: | B24B1/00 | 分類號: | B24B1/00 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務所 43008 | 代理人: | 趙洪;楊斌 |
| 地址: | 410073 湖南省長沙市硯瓦池正街47*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 球面 光學 零件 流程 加工 方法 | ||
1.一種非球面光學零件短流程加工方法,主要包括以下步驟:
(a)研磨粗拋:對非球面光學零件進行研磨粗拋后,如果所述非球面光學零件表面出現(xiàn)損傷,利用磁流變進行損傷去除,否則,進入步驟(b);
(b)面形誤差測量與分析:通過面形誤差測量得到面形誤差峰谷值與面形誤差的均方根值,然后根據(jù)面形誤差峰谷值與面形誤差均方根值的比值來判斷,即如果所述比值小于10時,進入下述步驟(c1),否則,進入下述步驟(c2);
(c)繼續(xù)選擇性加工:所述選擇性加工過程包括
(c1)采用磁流變修形迭代加工步驟去除低頻面形誤差,直到達到面形精度要求結束加工,否則,回到步驟(b);或
(c2)采用計算機控制小工具光順迭代加工步驟去除中、高頻面形誤差,直到面形誤差測量與分析結果顯示面形誤差峰谷值與面形誤差均方根值的比值小于10時,進入所述步驟(c1)。
2.根據(jù)權利要求1所述的非球面光學零件短流程加工方法,其特征在于:所述步驟(c1)中磁流變修形迭代加工時,所用的拋光液為氧化鈰磁流變液,拋光輪轉(zhuǎn)速為100rpm~300rpm,拋光液液體流量為60Lit/Hour~180Lit/Hour。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的非球面光學零件短流程加工方法,其特征在于:所述步驟(c2)中計算機控制小工具光順迭代加工時,所用的拋光磨料為氧化鈰。
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