1.一種離子注入設備，其包括用于引出離子束的離子源系統以及一用于傳輸離子束的離子束傳輸系統，其特征在于，該離子束傳輸系統的物理邊界在至少一個開放方向上單向開放或雙向開放，該至少一個開放方向垂直于離子束的傳輸路徑。

2.如權利要求1所述的離子注入設備，其特征在于，該離子源系統的數量為至少兩個，并且各離子源系統所引出的離子束在該至少一個開放方向上并行排列。

3.如權利要求1或2所述的離子注入設備，其特征在于，該離子束傳輸系統對離子束的有效作用范圍在該至少一個開放方向上是可調的。

4.如權利要求3所述的離子注入設備，其特征在于，該離子束傳輸系統包括多個束流光學元件，該多個束流光學元件均尺寸可調和/或運行參數可調，以使得每個束流光學元件對離子束的有效作用范圍在該至少一個開放方向上可調。

5.如權利要求4所述的離子注入設備，其特征在于，每個束流光學元件均包括在該至少一個開放方向上并行排列、且獨立受控的多個子元件，該多個子元件為一體式或可拆卸的分離式。

6.如權利要求5所述的離子注入設備，其特征在于，該束流光學元件為磁鐵元件或電極元件。

7.如權利要求6所述的離子注入設備，其特征在于，該磁鐵元件為電磁鐵，該電磁鐵包括在該至少一個開放方向上并行排列的多個子電磁鐵，該多個子電磁鐵共用鐵芯但線圈獨立受控或該多個子電磁鐵為可拆卸的分離式。

8.如權利要求1-7中任意一項所述的離子注入設備，其特征在于，該離子束傳輸系統沿著離子束的傳輸方向依次包括至少以下四個束流光學元件：一偏轉散焦磁鐵、一偏轉磁鐵、一偏轉聚焦磁鐵以及一電極系統；

該偏轉散焦磁鐵用于在該至少一個開放方向中的一個開放方向上散焦離子束，并沿著同時與離子束的散焦方向以及離子束的傳輸方向垂直的方向偏轉離子束；

該偏轉磁鐵用于沿著同時與離子束的散焦方向以及離子束的傳輸方向垂直的方向偏轉離子束；

該偏轉聚焦磁鐵用于在離子束的散焦方向上聚焦離子束，并沿著同時與離子束的聚焦方向以及離子束的傳輸方向垂直的方向偏轉離子束；

該電極系統用于沿著同時與離子束的聚焦方向以及離子束的傳輸方向垂直的方向偏轉離子束；

通過該偏轉散焦磁鐵、該偏轉磁鐵、該偏轉聚焦磁鐵以及該電極系統對離子束的偏轉實現對離子束的質量分析。

9.如權利要求8所述的離子注入設備，其特征在于，該偏轉散焦磁鐵為一第一桿狀四極磁鐵，該第一桿狀四極磁鐵的兩個鐵芯的線圈電流值不相等。

10.如權利要求8所述的離子注入設備，其特征在于，該偏轉磁鐵為一第二桿狀四極磁鐵或一二極磁鐵，其中該第二桿狀四極磁鐵的兩個鐵芯的線圈電流值不相等。

11.如權利要求8所述的離子注入設備，其特征在于，該偏轉聚焦磁鐵為一第三桿狀四極磁鐵，該第三桿狀四極磁鐵的兩個鐵芯的線圈電流值不相等。

12.如權利要求8所述的離子注入設備，其特征在于，該偏轉聚焦磁鐵將離子束聚焦為平行束流。

13.如權利要求8所述的離子注入設備，其特征在于，該電極系統還用于加速或減速離子束。