[發明專利]用于產生多視圖的渲染設備和方法有效
| 申請號: | 201180004611.8 | 申請日: | 2011-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN102687178A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發明(設計)人: | 黃圭榮;李晧榮;趙良鎬;鄭英珠 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G06T17/00 | 分類號: | G06T17/00 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 郭鴻禧 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 產生 視圖 渲染 設備 方法 | ||
1.一種用于產生多視圖的設備,所述設備包括:
渲染單元,用于通過渲染一個或多個參考視圖來產生多個預測視圖;
空洞聚合單元,用于產生參考空洞,其中,所述參考空洞表示存在于每個預測視圖中的空洞的聚合;
空洞修補單元,用于對參考空洞進行修補;以及
多視圖產生單元,用于使用修補的參考空洞來去除存在于每個預測視圖中的空洞。
2.如權利要求1所述的設備,其中,預測視圖是位于兩個連續參考視圖之間的內插視圖。
3.如權利要求2所述的設備,其中,內插視圖是連續內插視圖。
4.如權利要求2所述的設備,其中,空洞聚合單元產生包括參考空洞的參考空洞層,參考空洞層具有與內插視圖中的每個各自的視圖相同的大小。
5.如權利要求2所述的設備,其中,參考空洞具有比內插視圖中的每個各自的視圖中的每個空洞更大的大小。
6.如權利要求2所述的設備,其中,多視圖產生單元通過將修補的參考空洞的相應部分插入每個內插視圖的每個空洞來去除空洞。
7.如權利要求1所述的設備,其中,預測視圖是位于所述一個或多個參考視圖外部的外插視圖。
8.如權利要求7所述的設備,其中,外插視圖通過渲染單個參考視圖而產生。
9.如權利要求7所述的設備,其中,外插視圖是連續外插視圖。
10.如權利要求7所述的設備,其中,空洞聚合單元產生包括參考空洞的參考空洞層,參考空洞層具有與每個外插視圖相同的大小。
11.如權利要求7所述的設備,其中,參考空洞具有比每個外插視圖中的每個空洞更大的大小。
12.如權利要求7所述的設備,其中,多視圖產生單元通過將修補的參考空洞的相應部分插入每個外插視圖的每個空洞來去除空洞。
13.如權利要求1所述的渲染設備,還包括:
空洞檢測單元,用于檢測存在于所述多個預測視圖中的每個預測視圖中的空洞。
14.一種多視圖產生方法,所述方法包括:
經由處理器通過渲染一個或多個參考視圖來產生多個預測視圖;
產生參考空洞,其中,所述參考空洞表示存在于每個預測視圖中的空洞的聚合;
對參考空洞進行修補;以及
使用修補的參考空洞來去除存在于每個預測視圖中的空洞。
15.如權利要求14所述的多視圖產生方法,其中,預測視圖是位于兩個連續參考視圖之間的內插視圖。
16.如權利要求15所述的多視圖產生方法,其中,內插視圖是連續內插視圖。
17.如權利要求15所述的多視圖產生方法,其中,產生參考空洞的步驟包括:產生包括參考空洞的參考空洞層,參考空洞層具有與內插視圖中的每個各自的視圖相同的大小。
18.如權利要求15所述的多視圖產生方法,其中,參考空洞具有比內插視圖中的每個各自的視圖中的每個空洞更大的大小。
19.如權利要求15所述的多視圖產生方法,其中,去除空洞的步驟包括:通過將修補的參考空洞的相應部分插入每個內插視圖的每個空洞來去除空洞。
20.如權利要求14所述的多視圖產生方法,其中,預測視圖是位于所述一個或多個參考視圖外部的外插視圖。
21.如權利要求20所述的多視圖產生方法,其中,外插視圖通過渲染單個參考視圖而產生。
22.如權利要求20所述的多視圖產生方法,其中,外插視圖是連續外插視圖。
23.如權利要求20所述的多視圖產生方法,其中,產生參考空洞的步驟包括:產生包括參考空洞的參考空洞層,參考空洞層具有與外插視圖中的每個各自的視圖相同的大小。
24.如權利要求20所述的多視圖產生方法,其中,參考空洞具有比外插視圖中的每個各自的視圖中的每個空洞更大的大小。
25.如權利要求20所述的多視圖產生方法,其中,去除空洞的步驟包括:通過將修補的參考空洞的相應部分插入每個外插視圖的每個空洞來去除空洞。
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