1.切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，包括以下步驟：

(1)根據(jù)微差爆破設(shè)計(jì)要求對爆破開挖區(qū)劃定周邊輪廓線，并在主體爆破開挖區(qū)(4)內(nèi)布置微差爆破孔；

(2)沿所述爆破開挖區(qū)周邊輪廓線布置光面爆破孔(7)；

(3)在所述爆破開挖區(qū)周邊輪廓線之內(nèi)預(yù)留光面層(5)靠所述主體爆破開挖區(qū)(4)的一側(cè)布置切槽爆破孔(1)；所述預(yù)留光面層(5)的厚度為：所述爆破開挖區(qū)周邊將要形成的保留巖體壁面(6)與切槽爆破孔軸線構(gòu)成的平面(3)之間的距離，即光面爆破的最小抵抗線；

(4)利用切槽機(jī)械對所述切槽爆破孔(1)直徑的兩端切出V形槽(2)，該V形槽(2)所在的直徑處在所述切槽爆破孔軸線構(gòu)成的平面(3)內(nèi)；所述切槽爆破孔軸線構(gòu)成的平面(3)與所述保留巖體壁面(6)平行；

(5)根據(jù)巖體的類型對所述切槽爆破孔(1)按不耦合系數(shù)1.5～2.5進(jìn)行爆破裝藥，并布設(shè)低段雷管；其中所述巖體屬于軟巖時(shí)線裝藥密度為70～120g/m，所述巖體屬于中硬巖時(shí)線裝藥密度為120～300g/m，所述巖體屬于硬巖時(shí)線裝藥密度為300g/m～350g/m；

(6)根據(jù)微差爆破設(shè)計(jì)要求對所述主體爆破開挖區(qū)(4)內(nèi)的微差爆破孔進(jìn)行爆破裝藥，并比所述切槽爆破孔(1)高二段開始隔段布設(shè)微差爆破雷管；

(7)對所述光面爆破孔(7)按與所述切槽爆破孔(1)相同的裝藥不耦合系數(shù)、線裝藥密度、裝藥品種進(jìn)行爆破裝藥，并比所述主體爆破開挖區(qū)(4)最高段高二段布設(shè)所述爆破雷管；

(8)對所述主體爆破開挖區(qū)(4)內(nèi)的微差爆破孔、所述切槽爆破孔(1)和所述光面爆破孔(7)進(jìn)行堵塞；

(9)連接起爆網(wǎng)路，實(shí)施一次起爆，進(jìn)行微差爆破，即所述切槽爆破孔(1)低段雷管起爆，接著所述主體爆破開挖區(qū)(4)內(nèi)的微差爆破孔隔段布設(shè)的雷管起爆，最后所述光面爆破孔(7)起爆；

(10)出渣；

(11)重復(fù)上述步驟(1)～(10)，直至開挖完畢。

2.如權(quán)利要求1所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：所述步驟(2)中光面爆破孔(7)的直徑為38～42mm，且所述光面爆破孔(7)的孔間距為所述預(yù)留光面層(5)厚度的0.6～0.9倍。

3.如權(quán)利要求1所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：所述步驟(2)中預(yù)留光面層(5)厚度為10～20倍的所述光面爆破孔(7)直徑。

4.如權(quán)利要求1所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：所述步驟(3)中切槽爆破孔(1)的直徑與所述光面爆破孔(7)的直徑相同，且所述切槽爆破孔(1)的孔間距為所述切槽爆破孔(1)直徑的10～25倍。

5.如權(quán)利要求1所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：所述步驟(4)中V形槽(2)的切槽角為55～65°，切槽深度為4～6mm。

6.如權(quán)利要求1所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：用下述方法代替權(quán)利要求1中所述步驟(5)：首先給所述切槽爆破孔(1)兩端的V形槽(2)分別裝上線型槽(8)，使所述線型槽(8)的張口方向與所述V形槽(2)的開口方向一致，且所述線型槽(8)的張口角度與所述V形槽(2)的張口角度相同，并貼于所述V形槽(2)的壁面；然后根據(jù)巖體的類型對所述切槽爆破孔(1)按不耦合系數(shù)1.5～2.5進(jìn)行爆破裝藥，并布設(shè)低段雷管；其中所述巖體屬于軟巖時(shí)線裝藥密度為70～120g/m，所述巖體屬于中硬巖時(shí)線裝藥密度為120～300g/m，所述巖體屬于硬巖時(shí)線裝藥密度為300g/m～350g/m。

7.如權(quán)利要求6所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：所述線型槽(8)的橫截面呈V形；沿所述線型槽(8)的縱向且在V形的尖頂開設(shè)切縫(9)，該切縫(9)對準(zhǔn)所述V形槽(2)的尖頂。

8.如權(quán)利要求6所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：所述線型槽(8)由金屬、塑料或PVC材料制成，其壁厚為0.5～2mm。

9.如權(quán)利要求6所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：所述切縫(9)的寬度為5～10mm，其底端與所述線型槽(8)的底端(10)的距離為2～4cm，其頂端與所述線型槽(8)的頂端(11)的距離為10～35cm。

10.如權(quán)利要求1所述的切槽爆破與光面爆破聯(lián)合控制爆破法，其特征在于：用下述方法代替權(quán)利要求1中步驟(9)：連接起爆網(wǎng)路，先起爆所述切槽爆破孔(1)，接著起爆所述主體爆破開挖區(qū)(4)內(nèi)的微差爆破孔，最后起爆所述光面爆破孔(7)。