[發明專利]一種大尺寸紫外級氟化鈣單晶的生長方法及裝置無效
| 申請號: | 201110055752.4 | 申請日: | 2011-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN102677167A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發明(設計)人: | 柳祝平;黃小衛 | 申請(專利權)人: | 元亮科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/12 | 分類號: | C30B29/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 尺寸 紫外 氟化鈣 生長 方法 裝置 | ||
1.一種大尺寸紫外級氟化鈣單晶的生長方法及其裝置,其特征在于:采用頂部籽晶中心可調提拉結構、雙加熱純金屬發熱體、雙控溫加熱系統,創造一個可動態調節溫度梯度和溫場中心的特殊高溫真空晶體爐。
2.一種大尺寸紫外級氟化鈣單晶的生長方法及其裝置,其特征在于:將提拉法(CZ)、坩堝下降法、泡生法和溫梯法(TGT)各優點結合在一起,獨創出頂部籽晶溫度梯度法(TSTGT法),通過裝爐、抽高真空、升溫化料、洗籽晶、提拉法下種、提拉法“縮徑工藝”、提拉法“放肩工藝”、泡生法“等徑工藝”、TGT法等徑生長(控徑技術為CZ稱重)、CZ法收尾&脫坩堝、退火,生長出更大尺寸高品質氟化鈣單晶。
3.根據權利要求1所述一種大尺寸紫外級氟化鈣單晶的生長方法及其裝置,包括提拉結構,所述的提拉結構中心可調,下與爐蓋和爐膛相連,所述的爐膛中設置有法蘭座、雙金屬發熱體、保溫罩和坩堝。
4.根據權利要求1所述一種大尺寸紫外級氟化鈣單晶的生長方法及其裝置,其特征在于:所述全金屬發熱體采用了頂部帶四周加熱技術,發熱體不帶任何石墨或碳成分。四周金屬發熱體分為內外兩套,可分別獨立控溫,在晶體生長時,可以動態調整垂直溫度梯度,得到最佳的晶體生長垂直溫梯;在晶體生長后期,可以調整垂直溫梯到較低甚至接近于零,實現晶體原位退火,避免了退火時因溫度梯度較大而產生內部應力,而使晶體開裂。頂部金屬發熱體也可獨立控溫,在晶體生長時,動態調整水平溫度梯度,使晶體生長區水平溫梯幾乎為零。
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