1.一種光學測量裝置，包括：

光施加部，被配置為向在通道中流動的樣本施加激發光；以及

散射光檢測部，被配置為在所述激發光的傳播方向上，在所述樣本的下游側，檢測從被所述激發光照射的所述樣本生成的散射光，

所述散射光檢測部包括：

散射光分離掩模，用于將所述散射光分離成數值孔徑不大于特定值的低數值孔徑分量和數值孔徑大于所述特定值的高數值孔徑分量；

第一檢測器，用于檢測所述低數值孔徑分量；以及

第二檢測器，用于檢測所述高數值孔徑分量。

2.根據權利要求1所述的光學測量裝置，其中，所述散射光檢測部進一步包括：中繼透鏡系統，用于在所述散射光分離掩模上形成共軛面。

3.根據權利要求1所述的光學測量裝置，其中，所述低數值孔徑分量的數值孔徑不大于0.3。

4.根據權利要求1所述的光學測量裝置，其中，所述高數值孔徑分量的數值孔徑不小于0.6。

5.根據權利要求4所述的光學測量裝置，其中，所述散射光分離掩模透射數值孔徑不大于0.3的所述低數值孔徑分量，反射數值孔徑不小于0.6的所述高數值孔徑分量，并吸收數值孔徑大于0.3且小于0.6的其他分量。

6.根據權利要求4所述的光學測量裝置，其中，所述散射光分離掩模反射數值孔徑不大于0.3的所述低數值孔徑分量，透射數值孔徑不小于0.6的所述高數值孔徑分量，并吸收數值孔徑大于0.3且小于0.6的其他分量。

7.根據權利要求1所述的光學測量裝置，進一步包括具有微通道的分析薄片，其中，所述光施加部向在所述微通道中流動的所述樣本施加所述激發光。

8.根據權利要求1所述的光學測量裝置，其中，所述散射光檢測部進一步包括用于去除所述激發光的激發光屏蔽掩模。

9.根據權利要求1所述的光學測量裝置，進一步包括：

熒光檢測部，被配置為檢測從被所述激發光照射的所述樣本生成的熒光；以及

濾光器，設置在所述樣本和所述熒光檢測部/所述散射光檢測部之間，用于將所述熒光和所述散射光彼此分離。

10.一種光學測量方法，包括以下步驟：

向作為待測對象的樣本施加激發光；

在所述激發光的傳播方向上，在所述樣本的下游側，將從被所述激發光照射的所述樣本生成的散射光分離成數值孔徑不大于特定值的低數值孔徑分量和數值孔徑大于所述特定值的高數值孔徑分量；以及

分別檢測所述低數值孔徑分量和所述高數值孔徑分量。

11.一種光學測量裝置，包括：

光施加裝置，用于向通道中流動的樣本施加激發光；以及

散射光檢測裝置，用于在所述激發光的傳播方向上，在所述樣本的下游側，檢測從被所述激發光照射的所述樣本生成的散射光，

所述散射光檢測裝置包括：

散射光分離掩模，用于將所述散射光分離成數值孔徑不大于特定值的低數值孔徑分量和數值孔徑大于所述特定值的高數值孔徑分量；

第一檢測器，用于檢測所述低數值孔徑分量；以及

第二檢測器，用于檢測所述高數值孔徑分量。