1.提供圖像的方法，其包括：

A)?使陰圖制版的可成像元件熱成像以提供具有曝光區(qū)和非曝光區(qū)的成像元件，所述曝光區(qū)基本由聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成，和

B)?使用平版印刷油墨、潤版液或兩者在機(jī)顯影所述成像元件以僅除去所述非曝光區(qū)，

所述可成像元件包含親水基底并在其上具有基本由紅外輻射吸收化合物和在熱成像時(shí)聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成的單熱敏可成像層，

其中所述核殼粒子的核由疏水熱塑性聚合物構(gòu)成，

所述核殼粒子的殼由共價(jià)鍵合到所述核疏水熱塑性聚合物上的親水聚合物構(gòu)成，

其中所述熱敏可成像層包含少于10重量%游離聚合物。

2.權(quán)利要求1的方法，其中該可成像層包含少于5重量%游離聚合物。

3.權(quán)利要求1或2的方法，其中該核疏水熱塑性聚合物具有大于40℃的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。

4.權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)的方法，其中該核疏水熱塑性聚合物包含至少一種聚合物，所述聚合物是聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚亞甲基內(nèi)酯、聚氯乙烯、聚(甲基)丙烯腈、聚乙烯酯、聚砜、聚碳酸酯、聚氨酯和聚酰胺。

5.權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)的方法，其中該核殼粒子具有25至150納米的平均粒度。

6.權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)的方法，其中該核殼粒子的殼具有1至10納米的平均厚度并平均占核殼粒子體積的5至25%，且該核具有20至120納米的平均尺寸。

7.權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)的方法，其中該殼包含衍生自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酰胺、N-(甲基)丙烯酰基四唑、磺化(甲基)丙烯酸酯、乙二醇(甲基)丙烯酸酯磷酸酯、膦酸化(甲基)丙烯酸酯和二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酰胺中的一種或多種的聚合物。

8.權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)的方法，其中該親水殼聚合物經(jīng)由疏水核聚合物中的反應(yīng)性(甲基)丙烯酸基團(tuán)共價(jià)鍵合到疏水熱塑性核聚合物上。

9.權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)的方法，其中該紅外輻射吸收化合物以總可成像層干重量的5至30%的量存在于單熱敏可成像層中。

10.權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)的方法，其中該核殼粒子的殼或核至少部分交聯(lián)。

11.權(quán)利要求1至10任一項(xiàng)的方法，其中使用紅外激光器在700至1400納米波長下進(jìn)行成像。

12.權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)的方法，其中該可成像元件是平版印版前體并具有含鋁基底，所述含鋁基底具有親水表面。

13.通過權(quán)利要求1至12任一項(xiàng)的方法制成的具有包含親水表面的含鋁基底的平版印版。