[發明專利]流體處理方法、流體處理裝置及流體有效
| 申請號: | 201080022186.0 | 申請日: | 2010-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN102438727A | 公開(公告)日: | 2012-05-02 |
| 發明(設計)人: | 龜谷桂一郎;渡邊盛正;田中修 | 申請(專利權)人: | 大金工業株式會社 |
| 主分類號: | B01D53/06 | 分類號: | B01D53/06;B01D53/26 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 黨曉林;王小東 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流體 處理 方法 裝置 | ||
1.一種流體處理方法,用于使被處理流體中所含的第1成分的濃度降低,其包括:
第1步驟,使上述被處理流體中所含的與上述第1成分不同的第2成分的濃度降低,從而獲得第1流體;
第2步驟,使上述第1流體通過吸附部(20、220、320、420、520)的至少一部分而獲得第2流體,上述吸附部(20、220、320、420、520)可吸附上述第1成分及上述第2成分中的任一成分,且至少關于上述第1成分的上述吸附能力具有溫度相關性;以及
再生步驟,使第3流體通過上述吸附部(20、220、320、420、520)中的使上述第1流體通過的部分,所述第3流體中的上述第2成分的濃度低于上述被處理流體中上述第2成分的濃度,且該第3流體的溫度高于上述被處理流體的溫度。
2.根據權利要求1所述的流體處理方法,其中
上述第3流體中上述第1成分的濃度進一步降低。
3.根據權利要求1或2所述的流體處理方法,其中
還包括冷卻步驟,該冷卻步驟中使冷卻用流體通過上述再生步驟中上述第3流體通過上述吸附部(20、320、520)中的部分,上述冷卻用流體為上述第1流體或上述第2流體的一部分且溫度低于上述第3流體。
4.根據權利要求3所述的流體處理方法,其中
上述第3流體為將上述冷卻步驟中通過上述吸附部(20、320、520)的上述冷卻用流體加熱所得的流體。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的流體處理方法,其中
藉由使于上述吸附部(20、220、320、420、520)中使上述第1流體通過的位置(A)及使上述第3流體通過的位置(B)移動而進行上述再生步驟。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的流體處理方法,其中
上述第1成分是二氧化碳,
上述第2成分是水分。
7.一種流體處理裝置(1、201、401、501、501A、501B、601),用于使被處理流體中所含的第1成分的濃度降低,其包括:
第2成分處理部(10、610),用于使上述被處理流體中所含的與上述第1成分不同的第2成分的濃度降低;
吸附部(20、220、420、520),其可吸附上述第1成分及上述第2成分中的任一成分,且至少關于上述第1成分的上述吸附能力具有溫度相關性;
第1傳送部(32、33、55),其使通過上述第2成分處理部(10、610)的上述被處理流體的一部分即第1流體通過上述吸附部(20、220、420、520)的至少一部分;
加熱部(8、608),其將通過上述第2成分處理部(10、610)的上述被處理流體中除上述第1流體以外的部分中的至少一部分即第4流體,加熱至溫度高于上述被處理流體為止,從而獲得第5流體;以及
第2傳送部(37、38、56、237、437、537、537a、537b),其使上述第5流體通過上述吸附部(20、220、420、520)中的上述被處理流體經由上述第2成分處理部(10、610)所通過的部分。
8.根據權利要求7所述的流體處理裝置(1、501、501A、501B、601),其中
還包括第3傳送部(35、37、55、56、536、536a、536b),其使第1冷卻用流體通過上述吸附部(20、520)中的上述第5流體所通過的部分,該第1冷卻用流體為于上述第2成分處理部(10、610)中經處理的上述被處理流體的一部分、或者于上述第2成分處理部(10、610)中經處理后通過上述吸附部(20、520)的至少一部分的上述被處理流體的一部分,且溫度低于上述第5流體。
9.根據權利要求8所述的流體處理裝置(501、501A、501B、601),其中
上述第5流體是將通過上述吸附部(520)的上述第1冷卻用流體加熱所得的流體。
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