[實用新型]干涉裝置以及樞紐器無效
| 申請號: | 201020197820.1 | 申請日: | 2010-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN201751608U | 公開(公告)日: | 2011-02-23 |
| 發明(設計)人: | 劉家宏 | 申請(專利權)人: | 蘇州達方電子有限公司;達方電子股份有限公司 |
| 主分類號: | F16C11/10 | 分類號: | F16C11/10;F16C11/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215011 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 干涉 裝置 以及 樞紐 | ||
1.一種干涉裝置,用于樞紐器,該樞紐器具有樞軸,其特征在于,該干涉裝置包含:
第一干涉組件,套設于該樞軸,該第一干涉組件具有第一端面,該第一端面上具有一對第一干涉結構對稱于該樞軸而設置,該第一端面具有至少一第三干涉結構不對稱于該樞軸而設置;以及
第二干涉組件,轉動套設于該樞軸,該第二干涉組件具有第二端面面對該第一端面,該第二端面具有一對第二干涉結構對稱于該樞軸而設置,該第二端面具有至少一第四干涉結構不對稱于該樞軸而設置,并且該至少一第四干涉結構與該至少一第三干涉結構呈相對配置;
其中,該對第二干涉結構與該對第一干涉結構配合并且該至少一第三干涉結構能與該至少一第四干涉結構選擇性地干涉致使該第二干涉組件轉動時該對第一干涉結構于一第一角度選擇性地嵌合該對第二干涉結構。
2.根據權利要求1所述的干涉裝置,其特征在于:該對第一干涉結構的兩端分別設置第一斜面,該對第二干涉結構的兩端分別設置第二斜面,該些第一斜面以及該些第二斜面于該對第一干涉結構嵌合該對第二干涉結構時互相接觸,并且當該第二干涉組件轉動時,該對第一干涉結構以及該對第二干涉結構藉由該些第一斜面以及該些第二斜面離開嵌合狀態。
3.根據權利要求1所述的干涉裝置,其特征在于:該至少一第三干涉結構的兩端分別設置第三斜面,該至少一第四干涉結構的兩端分別設置第四斜面,該至少一第三干涉結構能于第二角度嵌合該至少一第四干涉結構,并且該些第三斜面以及該些第四斜面于該至少一第三干涉結構嵌合該至少一第四干涉結構時互相接觸,當該第二干涉組件轉動時,該至少一第三干涉結構以及該至少一第四干涉結構藉由該些第三斜面以及該些第四斜面離開嵌合狀態。
4.根據權利要求1所述的干涉裝置,其特征在于:該對第一干涉結構的高度大于或等于該至少一第三干涉結構的高度。
5.根據權利要求1所述的干涉裝置,其特征在于:該對第二干涉結構的高度大于或等于該至少一第四干涉結構的高度。
6.根據權利要求1所述的干涉裝置,其特征在于:該第一干涉組件包含一個第三干涉結構并且該第二干涉組件包含一個第四干涉結構,該第三干涉結構與該第四干涉結構于該第二干涉組件轉動每360度時互相嵌合。
7.根據權利要求1所述的干涉裝置,其特征在于:該第一干涉組件包含三個第三干涉結構并且該第二干涉組件包含三個第四干涉結構,該些第三干涉結構與該些第四干涉結構于該第二干涉組件轉動每120度時互相嵌合。
8.一種樞紐器,其特征在于,包含:
樞軸;以及
如權利要求1至7中任意一項權利要求所述的干涉裝置。
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