1.一種烹調裝置，包括：

烹調腔；

部件室，所述部件室位于所述烹調腔的后側，并設置有用于所述烹調腔中的烹調處理的多個部件；

后框架，所述后框架設置在所述烹調腔的后側；

外殼，所述外殼連接至所述后框架，以包圍所述烹調腔的頂側和兩側；以及

蓋子，所述蓋子連接至所述后框架或所述外殼，以在所述烹調腔的后方限定所述部件室。

2.如權利要求1所述的烹調裝置，還包括：

冷卻風扇，所述冷卻風扇設置在所述后框架的下側，以冷卻所述多個部件中的至少部分部件，所述冷卻風扇位于所述多個部件下方。

3.如權利要求1所述的烹調裝置，其中，所述多個部件包括磁控管，所述烹調腔的上表面設置有與所述磁控管連通的端口。

4.如權利要求1所述的烹調裝置，其中，所述多個部件包括以下部件中的至少兩個：對流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器。

5.如權利要求1所述的烹調裝置，還包括：

冷卻風扇，所述冷卻風扇在所述部件室中沿著所述后框架的下側的寬度方向設置，以冷卻所述多個部件。

6.如權利要求1所述的烹調裝置，還包括：

冷卻風扇，所述冷卻風扇在所述部件室中設置于所述后框架的下側，以冷卻所述多個部件；并且所述冷卻風扇產生分開的強制流，用于冷卻所述多個部件中的至少兩個部件。

7.如權利要求1至6中的任一項所述的烹調裝置，還包括：

氣流入口，所述氣流入口設置在所述烹調腔的橫向側；

風扇，所述風扇位于所述烹調腔的后側，并產生氣流；以及

氣流導向件，所述氣流導向件將所述風扇產生的氣流導向所述氣流入口。

8.如權利要求7所述的烹調裝置，其中，所述氣流導向件從所述烹調腔的后側延伸至位于所述部件室中的磁控管，然后從所述磁控管朝著所述烹調腔的橫向側上的所述氣流入口延伸。

9.如權利要求1所述的烹調裝置，其中，所述多個部件包括磁控管和以下部件中的至少一個：對流加熱器組件、高壓變壓器以及高壓電容器；

冷卻風扇在所述部件室中設置于所述后框架的下側，以冷卻所述多個部件中的至少部分部件，并且所述冷卻風扇產生氣流；

氣流導向件將氣流導向至所述磁控管。

10.如權利要求1至9中的任一項所述的烹調裝置，還包括設置在所述烹調腔的前側的前框架，其中，所述前框架、所述后框架和所述烹調腔上方的所述外殼限定上部空間，并且門覆蓋所述烹調腔和所述前框架。

11.如權利要求10所述的烹調裝置，其中，所述門設置有開口，該開口通過所述前框架的開口與所述上部空間連通。

12.如權利要求10所述的烹調裝置，還包括：

后部空間，所述后部空間對應于所述部件室，并位于所述烹調室的后方，從而所述蓋子能夠通過連接所述后框架或所述外殼來覆蓋所述上部空間和所述后部空間；以及

控制面板，所述控制面板位于所述門的、覆蓋所述前框架的區域。

13.如權利要求12所述的烹調裝置，還包括：

冷卻風扇，所述冷卻風扇在所述后部空間中設置于所述后框架的下側，并向所述后部空間的上方產生氣流，以及

分隔壁，所述分隔壁形成為橫跨所述后部空間、與所述分隔壁上方的所述后部空間連通、并防止所述氣流從所述分隔壁上方的所述后部空間流回到所述冷卻風扇。

14.如權利要求12所述的烹調裝置，還包括：

對流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器和冷卻風扇，所述對流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器和冷卻風扇分別設置在所述后部空間中，以及

第一加熱器、第二加熱器和端口，所述第一加熱器、第二加熱器和端口分別位于所述上部空間周圍，所述第一加熱器位于所述烹調腔的內部，所述第二加熱器位于所述烹調腔的外部，且所述端口設置為使得所述烹調腔與所述磁控管連通。

15.如權利要求1至9中的任一項所述的烹調裝置，還包括：

上部空間，所述上部空間由所述烹調腔上方的所述外殼限定；

側部空間，所述側部空間由所述烹調腔的兩側上的所述外殼限定；以及

后部空間，所述后部空間由所述烹調腔后方的所述蓋子限定，以對應于所述部件室；

其中，所述后部框架包括開口，從而所述后部空間能夠與所述上部空間連通，和/或所述后部空間能與所述側部空間連通。