1.一種成膜裝置，在容器內執行將相互反應的至少兩種反 應氣體按順序供給到基板上的循環來在該基板上生成反應生成 物的層，由此沉積膜，該成膜裝置包括：

基座，其能旋轉地設置在上述容器內；

基板載置區域，其設置在上述基座的一個面上，用于載置 上述基板；

加熱單元，其包括能夠獨立控制的多個加熱部，用于對上 述基座進行加熱；

第一反應氣體供給部，其構成為對上述一個面供給第一反 應氣體；

第二反應氣體供給部，其沿上述基座的旋轉方向離開上述 第一反應氣體供給部，構成為對上述一個面供給第二反應氣體；

分離區域，其沿上述旋轉方向位于被供給上述第一反應氣 體的第一處理區域和被供給上述第二反應氣體的第二處理區域 之間，用于分離上述第一處理區域和上述第二處理區域；

中央區域，其為了分離上述第一處理區域和上述第二處理 區域而位于上述容器的大致中央，具有沿上述一個面噴出第一 分離氣體的噴出孔；以及

排氣口，其為了對上述容器進行排氣而設置在上述容器內，

其中，上述分離區域包括：分離氣體供給部，其供給第二 分離氣體；以及頂面，該頂面設置有具有扇形表面形狀的凸狀 部，所述凸狀部的表面與上述基座的上述一個面相對而形成狹 窄的空間，在該狹窄的空間內上述第二分離氣體能夠從上述分 離區域流向上述處理區域側。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

還具有多個溫度傳感器，該多個溫度傳感器與上述多個加 熱部相對應地設置，獨立測量由對應的加熱部加熱的上述基座 部分的溫度。

3.根據權利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，

上述溫度傳感器是熱電偶和放射溫度計中的任一個。

4.根據權利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，

上述溫度傳感器是放射溫度計，由該放射溫度計測量上述 基座的與上述一個面相反的一側的另一個面的溫度。

5.根據權利要求4所述的成膜裝置，其特征在于，

還具有板狀部件，該板狀部件面對上述基座的上述另一個 面并與該另一個面之間形成空間。

6.根據權利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

還具有吹掃氣體供給管，該吹掃氣體供給管將吹掃氣體供 給到上述另一個面與上述板狀部件之間的上述空間中。

7.一種成膜方法，在容器內執行將相互反應的至少兩種反 應氣體按順序供給到基板上的循環來在該基板上生成反應生成 物的層，由此沉積膜，該成膜方法包括以下步驟：

載置的步驟，將上述基板載置在基座上，該基座能旋轉地 設置在成膜裝置的容器內并在一個面上具有基板載置區域；

旋轉的步驟，使載置了上述基板的基座旋轉；

加熱步驟，使用加熱單元來對上述基座進行加熱，該加熱 單元包括能夠獨立控制的多個加熱部，用于對上述基座進行加 熱；

供給第一反應氣體的步驟，從第一反應氣體供給部對上述 一個面供給第一反應氣體；

供給第二反應氣體的步驟，從沿著上述基座的旋轉方向離 開上述第一反應氣體供給部的第二反應氣體供給部對上述一個 面供給第二反應氣體；

使第一分離氣體流動的步驟，從設置在分離區域內的分離 氣體供給部供給第一分離氣體，在形成于上述分離區域的頂面 的具有扇形表面形狀的凸狀部的表面與上述基座之間的狹窄的 空間內使上述第一分離氣體從上述分離區域流向處理區域側， 上述分離區域位于從上述第一反應氣體供給部供給上述第一反 應氣體的第一處理區域與從上述第二反應氣體供給部供給上述 第二反應氣體的第二處理區域之間；

供給第二分離氣體的步驟，從形成在位于上述容器的中央 部的中央區域內的噴出孔供給第二分離氣體；以及

排氣步驟，對上述容器內進行排氣。