[發(fā)明專利]肌膚狀態(tài)分析方法、肌膚狀態(tài)分析裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910138583.3 | 申請日: | 2006-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN101548880A | 公開(公告)日: | 2009-10-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 北村尚美;舛田勇二;大西浩之 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社資生堂 |
| 主分類號: | A61B5/00 | 分類號: | A61B5/00;A61B5/107;G06T1/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 肌膚 狀態(tài) 分析 方法 裝置 | ||
本發(fā)明專利申請是申請日為2006年4月21日、申請?zhí)枮?00680014786.6、發(fā)明名稱為“肌膚狀態(tài)分析方法、肌膚狀態(tài)分析裝置、及記錄有肌膚狀態(tài)分析程序的記錄介質(zhì)”的發(fā)明專利申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及肌膚狀態(tài)分析方法、肌膚狀態(tài)分析裝置、及記錄有肌膚狀態(tài)分析程序的記錄介質(zhì),特別涉及用于高精度地進(jìn)行肌膚狀態(tài)的多方面分析的肌膚狀態(tài)分析方法、肌膚狀態(tài)分析裝置、及記錄有肌膚狀態(tài)分析程序的記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)
以往,在化妝顧問和醫(yī)療領(lǐng)域中,提出了用于對皮膚的狀態(tài)進(jìn)行分析的多種方法。例如,在專利文獻(xiàn)1、2等中公開了如下的方法:使用顯微鏡等來對肌膚(皮膚)的小皺紋、毛孔、色斑、雀斑等肌膚局部的表面狀態(tài)進(jìn)行拍攝,而對所拍攝的內(nèi)容進(jìn)行分析。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2003-24283號公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開平7-323013號公報(bào)
但是,目前還不存在為了如上所述使用從裝備有顯微鏡的計(jì)測設(shè)備所取得的受試者的肌膚信息,來高精度地進(jìn)行肌膚的評價(jià),而對需要的肌理、毛孔、色斑、膚色、皮脂量進(jìn)行分析并數(shù)值化的分析裝置。另外,也還未提出通過使受試者、顧問、醫(yī)生等易于理解地來顯示分析結(jié)果,從而進(jìn)行多方面分析/診斷的方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題點(diǎn)而產(chǎn)生的,其目的在于提供用于高精度地進(jìn)行肌膚狀態(tài)的多方面分析的肌膚狀態(tài)分析方法、肌膚狀態(tài)分析裝置、及記錄有肌膚狀態(tài)分析程序的記錄介質(zhì)。
本發(fā)明的使用所拍攝的受試者的肌膚圖像來進(jìn)行肌膚的肌理或毛孔的分析的肌膚狀態(tài)分析方法的特征在于,其具有如下步驟:參數(shù)生成步驟,在該步驟中,將從所述圖像得到的毛孔的尺寸、皮溝的清晰度、皮丘的纖細(xì)度以及皮丘的形狀中的至少一個(gè)參數(shù)化;以及分析步驟,在該步驟中,根據(jù)從所述參數(shù)生成步驟中得到的參數(shù)來進(jìn)行肌膚的肌理或毛孔的分析。由此,可高精度地進(jìn)行受試者的肌膚的肌理或毛孔的分析。
另外,在所述參數(shù)生成步驟中,優(yōu)選在將所述毛孔的尺寸參數(shù)化的情況下,使用從所述圖像得到的毛孔的面積,在將所述皮溝的清晰度參數(shù)化的情況下,使用從所述圖像得到的皮溝的寬度,在將所述皮丘的纖細(xì)度參數(shù)化的情況下,使用從所述圖像得到的皮丘的數(shù)量或平均面積,在將所述皮丘的形狀參數(shù)化的情況下,使用從所述圖像得到的皮丘的圓度。由此,針對從肌膚圖像得到的肌膚的肌理或毛孔,可使用利用數(shù)值等表現(xiàn)的參數(shù)來容易地實(shí)現(xiàn)高精度的分析。
另外,本發(fā)明的使用所拍攝的受試者的肌膚圖像來進(jìn)行肌膚的肌理或毛孔的分析用的肌膚狀態(tài)分析方法的特征在于,其具有如下步驟:RGB成分提取步驟,在該步驟中,從所述圖像中提取出R成分、G成分和B成分;毛孔圖像提取步驟,在該步驟中,從通過所述RGB成分提取步驟所得到的R成分、B成分或G成分中提取出毛孔圖像;毛孔參數(shù)生成步驟,在該步驟中,根據(jù)所述毛孔圖像將毛孔的尺寸參數(shù)化;皮溝圖像提取步驟,在該步驟中,從通過所述RGB成分提取步驟所得到的G成分中提取出皮溝圖像;皮溝參數(shù)生成步驟,在該步驟中,根據(jù)所述皮溝圖像將皮溝的清晰度參數(shù)化;皮丘圖像提取步驟,在該步驟中,從所述毛孔圖像和所述皮溝圖像中提取出皮丘圖像;皮丘參數(shù)生成步驟,在該步驟中,根據(jù)所述皮丘圖像將皮丘的纖細(xì)度和/或皮丘的形狀參數(shù)化;以及參數(shù)分析步驟,在該步驟中,使用通過所述毛孔參數(shù)生成步驟、所述皮溝參數(shù)生成步驟和所述皮丘參數(shù)生成步驟所得到的參數(shù)中的至少一個(gè)來進(jìn)行肌膚的肌理或毛孔的分析。由此,可高精度地進(jìn)行受試者的肌膚的肌理或毛孔的分析。
另外,在所述毛孔圖像提取步驟中,優(yōu)選根據(jù)所述R成分、所述B成分或所述G成分生成差分圖像,從所生成的差分圖像中去除皮溝,提取出所述毛孔圖像。由此,可通過使用根據(jù)R成分、所述B成分或所述G成分所生成的差分圖像,來高精度地提取出毛孔圖像。
另外,在所述毛孔參數(shù)生成步驟中,優(yōu)選計(jì)算出所述毛孔圖像中的毛孔的平均面積和/或總面積,根據(jù)所計(jì)算出的面積來生成毛孔參數(shù)。由此,可高精度地取得基于毛孔而數(shù)值化的參數(shù)。另外,即使不是專家也可以根據(jù)參數(shù)內(nèi)容進(jìn)行均一的分析。
另外,在所述皮溝圖像提取步驟中,優(yōu)選針對所述G成分的圖像使用對所述皮溝的形狀進(jìn)行強(qiáng)調(diào)的微分濾波器來進(jìn)行濾波,來提取出所述皮溝圖像。由此,通過使用G成分來利用對皮溝的形狀進(jìn)行強(qiáng)調(diào)的微分濾波器來進(jìn)行濾波,可高精度地進(jìn)行毛孔去除和皮溝的強(qiáng)調(diào)。因此,可高精度地取得皮溝圖像。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社資生堂,未經(jīng)株式會社資生堂許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/200910138583.3/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種顯示器托架
- 下一篇:一種可旋轉(zhuǎn)壁掛的顯示器底座
- 同類專利
- 專利分類
- 狀態(tài)檢測裝置及狀態(tài)檢測方法
- 狀態(tài)估計(jì)裝置以及狀態(tài)估計(jì)方法
- 經(jīng)由次級狀態(tài)推斷管理狀態(tài)
- 狀態(tài)估計(jì)裝置及狀態(tài)估計(jì)方法
- 狀態(tài)估計(jì)裝置、狀態(tài)估計(jì)方法
- 狀態(tài)預(yù)測裝置以及狀態(tài)預(yù)測方法
- 狀態(tài)推定裝置、狀態(tài)推定方法和狀態(tài)推定程序
- 狀態(tài)檢測系統(tǒng)及狀態(tài)檢測方法
- 狀態(tài)判定裝置、狀態(tài)判定方法以及狀態(tài)判定程序
- 狀態(tài)判斷裝置以及狀態(tài)判斷方法





