1.一種化學反應設備，該化學反應設備包括微波輻照裝置和化學反應裝置，所述的微波輻照裝置包括微波發生裝置和微波輻照腔，其特征在于，所述化學反應裝置包括槽體以及物料流動控制裝置，所述槽體的至少一部分位于所述微波輻照腔中。

2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述槽體為直形、螺旋形或蛇形。

3.根據權利要求1或2所述的設備，其中，所述槽體頂部設置有至少部分覆蓋槽體的頂蓋。

4.根據權利要求1所述的設備，其中，所述物料流動控制裝置包括推動物料流動的裝置。

5.根據權利要求4所述的設備，其中，所述推動物料流動的裝置包括調節槽體兩端高度差的槽體調節裝置。

6.根據權利要求4或5所述的設備，其中，所述槽體為直形，所述推動物料流動的裝置包括多塊刮板和傳動裝置，所述多塊刮板間隔地固定在所述傳動裝置上，所述傳動裝置的至少一部分設置在所述槽體內，所述刮板的形狀與所述槽體的截面相匹配。

7.根據權利要求4或5所述的設備，其中，所述槽體為直形，所述推動物料流動的裝置包括單螺桿驅動機構或多螺桿驅動機構，單螺桿驅動機構或多螺桿驅動機構位于槽體內。

8.根據權利要求7所述的設備，所述單螺桿驅動機構或多螺桿驅動機構的螺旋葉片表面上設置有一個或多個第一突起物；所述第一突起物沿螺桿徑向至螺桿軸的最小距離為螺旋葉片外緣至螺桿軸的徑向距離的1/5-4/5，所述第一突起物沿螺桿軸向的長度為螺距的1/5-4/5。

9.根據權利要求1所述的設備，其中，所述物料流動控制裝置還包括改變物料流動狀態的裝置。

10.根據權利要求9所述的設備，其中，所述改變物料流動狀態的裝置包括設置在所述槽體內的第二突起物。

11.根據權利要求9或10所述的設備，其中，所述改變物料流動狀態的裝置包括設置在槽體內的一個固體顆粒物床層或沿槽體長度方向排列的多個固體顆粒物床層，所述物料能夠穿過該固體顆粒物床層。

12.根據權利要求11所述的設備，其中，所述固體顆粒物為固體催化劑顆粒。

13.根據權利要求1或4所述的設備，其中，所述化學反應設備還包括換熱裝置和溫度測控裝置。

14.根據權利要求13所述的設備，其中，所述換熱裝置包括物料換熱裝置和/或微波輻照腔換熱裝置，所述物料換熱裝置包括設置在所述槽體外側的可通入換熱介質的夾層；所述微波輻照腔換熱裝置包括設置在所述微波輻照腔上的換氣裝置和/或設置在微波輻照腔內的換熱器，所述換氣裝置為排出氣體裝置和/或通入氣體裝置；

所述溫度測控裝置包括控制器、以及物料溫度測量裝置和/或微波輻照腔溫度測量裝置；

所述控制器接收物料溫度測量裝置測量的物料溫度，并根據換熱介質的溫度和所測量的物料溫度控制所述夾層中換熱介質的流量；和/或接收微波輻照腔溫度測量裝置測量的微波輻照腔內的溫度，并根據所測量的微波輻照腔溫度控制所述通氣裝置的氣體流量和/或根據換熱器內換熱介質的溫度和所測量的微波輻照腔溫度控制換熱器內換熱介質的流量。

15.根據權利要求14所述的設備，其中，所述夾層與所述槽體共用至少一個表面，所述夾層內設置有多個第三突起物，所述多個第三突起物設置在所述共用的至少一個表面上。

16.根據權利要求1或4所述的設備，其中，所述微波輻照腔和所述槽體各自獨立地為多個；所述槽體串聯或并聯地設置在所述多個微波輻照腔中。

17.一種權利要求1-16中任意一項所述設備在化學反應中的應用。