1.一種鍍鉻部件，其包括：

體部；

腐蝕分散鍍層，其形成于所述體部上；

0.05至2.5微米厚的三價(jià)鉻鍍層，其使用堿性硫酸鉻作為金屬源形成于所述腐蝕分散鍍層上；和

不小于7nm厚的鉻化合物膜，其通過(guò)陰極酸性電解鉻酸鹽處理形成于所述三價(jià)鉻鍍層上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鉻部件，其中

所述三價(jià)鉻鍍層具有微孔結(jié)構(gòu)和微裂紋結(jié)構(gòu)的至少任何之一。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鉻部件，其中

所述三價(jià)鉻鍍層包括Fe。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鉻部件，其中

所述三價(jià)鉻鍍層包括1至7原子％的Fe。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鉻部件，其中

所述三價(jià)鉻鍍層包括3至19原子％的C、1至22原子％的O和1至7原子％的Fe。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的鍍鉻部件，其中

由所述腐蝕分散鍍層、三價(jià)鉻鍍層和鉻化合物膜組成的復(fù)合鍍膜滿足以下條件(a)至(c)：

(a)60°鏡面光澤度不小于480；

(b)當(dāng)進(jìn)行JIS?H?8502中定義的CASS試驗(yàn)40小時(shí)，然后對(duì)于具有尺寸不大于30微米的腐蝕斑點(diǎn)根據(jù)上述JIS?H?8502基于全部腐蝕面積比進(jìn)行評(píng)價(jià)時(shí)，分級(jí)數(shù)的評(píng)價(jià)值不小于8.0；

(c)在腐蝕測(cè)試后沒(méi)有觀察到由于腐蝕導(dǎo)致的外觀變化，在所述腐蝕測(cè)試中，將包括30g高嶺土和50ml氯化鈣飽和溶液的泥狀腐蝕促進(jìn)劑均勻地施涂至所述復(fù)合鍍膜，然后將所述鍍鉻部件放置于保持在60℃和23％RH環(huán)境下的恒溫恒濕室中336小時(shí)。

7.一種制造鍍鉻部件的方法，其包括以下步驟：

在體部上形成用于腐蝕電流分散的腐蝕分散鍍層；

使用堿性硫酸鉻作為金屬源在所述腐蝕分散鍍層上形成0.05至2.5微米厚的三價(jià)鉻鍍層；和

通過(guò)陰極酸性電解鉻酸鹽處理在所述三價(jià)鉻鍍層上形成不小于7nm厚的鉻化合物膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造鍍鉻部件的方法，其中所述腐蝕分散鍍層通過(guò)在鍍?cè)≈须婂儊?lái)生產(chǎn)，所述鍍?cè)【哂刑峁┰谌齼r(jià)鉻鍍層中的微孔結(jié)構(gòu)和微裂紋結(jié)構(gòu)的至少之一的功能。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制造鍍鉻部件的方法，其中所述三價(jià)鉻鍍層通過(guò)在包含90至160g/l堿性硫酸鉻作為主要組分和包含以下作為添加劑的鍍?cè)≈须婂儊?lái)生產(chǎn)：硫氰酸鹽、單羧酸鹽和二羧酸鹽的至少任何之一；銨鹽、堿金屬鹽和堿土金屬鹽的至少任何之一；硼化合物；和溴化物。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造鍍鉻部件的方法，其中所述三價(jià)鉻鍍層通過(guò)在包含以下作為添加劑的鍍?cè)≈须婂儊?lái)生產(chǎn)：甲酸銨和甲酸鉀的至少任何之一作為所述單羧酸鹽，溴化銨和溴化鉀的至少任何之一作為所述溴化物；和硼酸作為所述硼化合物。

11.根據(jù)權(quán)利要求7至10任一項(xiàng)所述的制造鍍鉻部件的方法，其中

所述陰極酸性電解鉻酸鹽處理為生成不小于7nm厚的鉻化合物膜的處理，所述鉻化合物為氧化鉻、氫氧化鉻和羥基氧化鉻的至少任何之一，和

所述陰極酸性電解鉻酸鹽處理在包含重鉻酸鹽、鉻酸鹽和鉻酐的至少任何之一并具有pH?1.0至5.5和溫度20至70℃的浴中，在0.1至1.0A/dm²的電流密度下進(jìn)行10至90秒。