1.一種掩模布局方法，包括以下步驟：

形成第一虛設圖案，該第一虛設圖案包括有開放空間；

在所述第一虛設圖案的所述開放空間內形成第二虛設圖案，

其中形成所述第一虛設圖案的步驟包括：

形成第一母虛設圖案；

收縮所述第一母虛設圖案以形成第三虛設圖案；以及

綜合所述第三虛設圖案和所述第一母虛設圖案，以移除所述第一母虛設圖案與所述第三虛設圖案重疊的部分，從而形成所述第一虛設圖案。

2.根據權利要求1所述的掩模布局方法，其中形成所述第二虛設圖案的步驟包括：

收縮所述第三虛設圖案；以及

在所述第一虛設圖案的所述開放空間內沉積所述經收縮的第三虛設圖案。

3.根據權利要求2所述的掩模布局方法，其中收縮所述第三虛設圖案的步驟包括收縮所述第三虛設圖案以形成另一個第三虛設圖案，然后收縮所述另一個第三虛設圖案以形成所述第二虛設圖案。

4.根據權利要求2所述的掩模布局方法，還包括以不同于所述第一虛設圖案的圖案類型替換所述經收縮的第三虛設圖案。

5.根據權利要求4所述的掩模布局方法，其中以不同于所述第一虛設圖案的圖案類型替換所述經收縮的第三虛設圖案的步驟是于所述第一虛設圖案的所述開放空間內沉積所述經收縮的第三虛設圖案之后執行的。

6.根據權利要求4所述的掩模布局方法，其中以不同于所述第一虛設圖案的圖案類型替換所述收縮的第三虛設圖案的步驟是于所述第一虛設圖案的所述開放空間內沉積所述收縮后的第三虛設圖案之前執行的。

7.根據權利要求4所述的掩模布局方法，其中所述第一虛設圖案的所述圖案類型為有源層類型虛設圖案，而所述第二虛設圖案的圖案類型是多晶類型虛設圖案。

8.根據權利要求1所述的掩模布局方法，其中所述第一虛設圖案為環形形狀。