1.一種電感耦合線圈，其特征在于，包括三組直徑不同且相互嵌 套的線圈繞組，所述三組線圈繞組中位于中間的線圈繞組的上表面高于 位于外側和內側的線圈繞組的上表面，且所述每一組線圈繞組包括至少 兩個并聯連接且相互嵌套對稱分布的線圈分支，以便獲得分布均勻的等 離子體。

2.根據權利要求1所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述線圈分 支為平面結構。

3.根據權利要求2所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述線圈分 支呈平面螺旋線的形狀，所述螺旋線為阿基米德螺旋線或漸開線或渦狀 線的形式。

4.根據權利要求2所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述線圈分 支為大致同心圓的形狀，并且所述同心圓中的每一圈包括多個弓形的弧 線段，和至少一個在弧線段之間延伸并連接的連接部分，所述弧線段分 別沿著所述同心圓延伸。

5.根據權利要求1所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述線圈分 支為立體結構。

6.根據權利要求5所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述線圈分 支呈立體螺旋形狀，且沿上升方向其螺旋線的直徑相同或者直徑漸小或 者直徑漸大。

7.根據權利要求1所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述每一組 線圈繞組包括三個相互嵌套且對稱分布的的線圈分支。

8.根據權利要求1所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述直徑不 同且相互嵌套的線圈繞組的數量為3，并且中間繞組上表面的高度高于 最內圈繞組以及最外圈繞組上表面的高度。

9.根據權利要求8所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述最內圈 繞組的直徑小于被加工晶片的直徑，所述中間繞組的直徑大致等于被加 工晶片的直徑，所述最外圈繞組的直徑大于被加工晶片的直徑且小于介 質窗的尺寸。

10.根據權利要求1所述的電感耦合線圈，其特征在于，所述三組 線圈繞組彼此之間的連接方式為串聯方式、并聯方式以及混聯方式。

11.一種等離子體處理裝置，包括反應腔室，所述反應腔室的上 部設有介電窗，其特征在于，在所述介電窗的上方設置有如權利要求1 至10中任意一項所述的電感耦合線圈，所述電感耦合線圈通過射頻匹 配器與射頻電源連接，以便在反應腔室內得到分布均勻的等離子體。