1.一種磁控濺射與多弧離子鍍復合式真空鍍膜方法，其特征在于該方法采用磁控濺射與多弧離子鍍復合式真空鍍膜機，在銅基底上采用磁控濺射鍍鎳和多弧離子鍍鍍鉻來鍍制鎳鉻復合膜，其鍍制過程包括以下步驟：

(1)預處理：待鍍件依次用清水清洗，然后在丙酮中超聲波清洗清除有機污染物，再用超聲波去離子水清洗去除殘余丙酮，最后用無水乙醇清洗后烘干；

(2)裝爐與離子轟擊：1)打開總電源、冷卻水、工控機和氣瓶，開啟維持用機械泵，同時聯通擴散泵電源對其預熱0.5～1.5h；2)對真空室放氣后打開真空室門；3)將清洗好的工件裝到工件架上，再將工件架掛到真空室內部的工件架轉盤上，然后關閉真空室門；4)打開粗抽泵和預抽閥，對真空室抽真空，當氣壓達到1Pa以下時，關閉預抽閥和粗抽泵，打開擴散泵上面的主閥，對真空室抽真空，直至真空室內的壓力低于本底真空2.5×10^-3Pa；5)關小抽氣閥開度，打開質量流量計開關和進氣閥，向真空室內充入工作氣體氬氣，調節質量流量計的流量，使氣壓調節到0.5～5Pa范圍內；6)，打開負偏壓電源，將負偏壓調至500～1000V范圍，對工件進行離子轟擊輝光清洗，同時啟動加熱器對待鍍件烘烤加熱；7)當工件溫度達到200～500℃且離子清洗完畢后，關閉加熱器電源和質量流量計，打開抽氣閥，繼續抽真空至2.5×10^-2Pa；

(3)鍍制鎳膜層：關小抽氣閥開度，打開質量流量計，再向真空室充入Ar氣，調節質量流量計的流量，至磁控濺射鍍膜所需工作壓力0.05～5Pa范圍，開啟磁控濺射靶擋板，打開磁控濺射電源，逐漸加大電壓，直至起輝，待起輝穩定后，將工件架旋轉，調解濺射電壓與電流值，電壓范圍-225～-475V，電流0.05～0.5A，同時打開負偏壓電源，調至所需電壓值0～-250V，進行鍍膜，當膜層達到預定厚度或達到設定的鍍膜時間后，鍍膜結束，關閉磁控濺射靶電源和磁控濺射靶擋板；

(4)鍍制鉻膜層：再次調節質量流量計的流量，使真空室壓力達到電弧鍍所需工作壓力0.1～5Pa范圍，打開多弧電源進行引弧，開啟電弧靶擋板，將電壓、電流調到合適范圍(10～20V，20～200A)，同時打開負偏壓電源，調至所需電壓值-100～-300V，進行鍍膜，工作時轉動工件架，當膜層達到預定厚度或達到設定的鍍膜時間后，鍍膜結束，關閉電弧靶擋板和電弧靶電源；

(5)出爐與后處理：關閉抽氣閥，對真空室體充入氮氣或干燥空氣，控制壓力在10³Pa以下，為工件降溫至80℃以下，真空室放大氣后開門，工件出爐、下架、檢驗、包裝，本批次工件鍍膜工藝流程結束，轉回步驟(2)進入下一批次工件的加工流程或轉向步驟(6)；

(6)停機：關閉真空室門，開預抽機械泵和預抽閥，對真空室抽真空至20Pa以下時，關閉預抽閥和真空計，同時關擴散泵電源，擴散泵的水冷系統需待擴散泵冷卻后停水，然后關閉制冷機、充氣瓶、總電源，工作結束。