1.一種等離子體設備，包括：

第一陽極等離子體頭和第一陰極等離子體頭，它們每個都包括電 極、等離子體流動通道、以及布置在所述等離子體流動通道和所述電 極的至少一部分之間的主氣體入口，所述第一陽極等離子體頭和所述 第一陰極等離子體頭布置成相對彼此成一角度；以及

第二陽極等離子體頭和第二陰極等離子體頭，它們每個都包括電 極、等離子體流動通道、以及布置在所述等離子體流動通道和所述電 極的至少一部分之間的主氣體入口，所述第二陽極等離子體頭和所述 第二陰極等離子體頭布置為相對彼此成一角度；

所述第一陽極等離子體頭和第一陰極等離子體頭布置在第一平面 中，所述第二陽極等離子體頭和所述第二陰極等離子體頭布置在第二 平面中，所述第一和第二平面布置成彼此之間的角度在50度到90度之 間。

2.權利要求1的等離子體設備，其中所述第一平面和所述第二平面 布置為彼此之間的角度在55度到65度之間。

3.權利要求1的等離子體設備，其中每個等離子體頭的等離子體流 動通道包括：第一大體圓柱形部分，與所述電極相鄰，具有直徑D1； 第二大體圓柱形部分，與所述第一大體圓柱形部分相鄰，具有直徑D2； 以及第三大體圓柱形部分，與所述第二大體圓柱形部分相鄰，具有直 徑D3，其中D1＜D2＜D3。

4.權利要求1的等離子體設備，還包括粉末噴射器，其與至少一個 等離子體頭相聯，所述噴射器設置成將粉末材料引入由所述至少一個 等離子體頭產生的等離子體流中。

5.權利要求4的等離子體設備，其中所述粉末噴射器設置成相對于 所述等離子體流大致徑向地噴射粉末，以及其中所述粉末噴射器包括 狹長的開口橫截面，所述開口的長軸線定向為大致平行于所述至少一 個等離子體頭的所述等離子體流動通道的軸線。

6.權利要求4的等離子體設備，其中所述粉末噴射器設置成將粉末 材料導向位于所述第一陽極等離子體頭和所述第一陰極等離子體頭的 耦合區和所述第二陽極等離子體頭和所述第二陰極等離子體頭的耦合 區之間的區域。

7.權利要求4的等離子體設備，包括第一粉末噴射器，設置成相對 于所述等離子體流大致徑向地噴射粉末；以及第二粉末噴射器，設置 成將粉末材料導向位于所述第一陽極等離子體頭和所述第一陰極等離 子體頭的耦合區和所述第二陽極等離子體頭和所述第二陰極等離子體 頭的耦合區之間的區域。

8.權利要求1的等離子體設備，其中至少一個所述等離子體頭包括 輔助氣體入口，在所述主氣體入口的下游。