[發(fā)明專利]電子級(jí)高純鉬粉的還原制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710191960.0 | 申請(qǐng)日: | 2007-12-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101214552A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪濤;陶杰;潘蕾;駱心怡 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京航空航天大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B22F9/22 | 分類號(hào): | B22F9/22 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210016*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子 高純 還原 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電子級(jí)高純鉬粉還原生產(chǎn)的一種新型純鉬還原舟皿以及避免其還原時(shí)氧化“塌邊”的方法。
發(fā)明背景
由于鉬是一種熔點(diǎn)為2625℃的難熔金屬,在高溫下具有很強(qiáng)的抗張強(qiáng)度、抗蠕變強(qiáng)度以及良好的耐熱性,與硅接近的低熱膨脹系數(shù),導(dǎo)熱率和導(dǎo)電率均高,同時(shí)對(duì)液態(tài)金屬、鉀、鈣、鉍和銫等和其它熔鹽有良好的抗蝕性,因此,它以各種形式應(yīng)用于國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域中,如宇航和核能,照明電器和電子器件,真空爐和保護(hù)氣氛電爐,金屬壓力加工、玻璃工業(yè)等。高科技的迅速發(fā)展,也為鉬的新應(yīng)用和發(fā)展開(kāi)辟了十分廣闊的前景。如超高純鉬在微電子技術(shù)中的應(yīng)用,用高純和超高純鉬同硅共濺制取的MoSi2在微電子器中用作集成線路的更為優(yōu)良的布線材料和在金屬化合物半導(dǎo)體中作高級(jí)柵門(mén)材料。近年來(lái),隨著平板顯示器大型化、高精細(xì)化,對(duì)材料比電阻的要求提高,需求高漲。由于平板顯示器大型化,配線的長(zhǎng)度增加線寬變細(xì),因此電阻值增大,所以要求更低電阻的配線材料。與Cr相比,Mo的比電阻、膜應(yīng)力要小一半。由于微電子、顯示技術(shù)發(fā)展的需要及迅速發(fā)展,高純和超高純鉬發(fā)展十分迅速。
從原料鉬酸鹽至高純鉬深加工制品的生產(chǎn)過(guò)程中,高純鉬粉的制備是純度控制的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。鉬粉是生產(chǎn)鉬深加工產(chǎn)品的原料,原料性能的優(yōu)劣很大程度上影響著后續(xù)加工產(chǎn)品的質(zhì)量。氫氣還原法是工業(yè)批量生產(chǎn)鉬粉的主要方法,工業(yè)上生產(chǎn)金屬鉬粉一般以鉬酸鹽為原料,制備方法有焙解還原法、一次還原法及二次還原法,其中二次還原法是應(yīng)用最為普遍的生產(chǎn)方法。鉬粉的質(zhì)量在很大程度上取決于以下兩個(gè)方面一是原料鉬酸的純度,二是還原工藝的最優(yōu)控制。
目前國(guó)內(nèi)外鉬粉還原舟皿普遍采用鉬合金、純鎳、鎳鉻系高溫合金或不銹鋼材料焊接制造。由于還原鉬粉時(shí)產(chǎn)生的水蒸氣以及氫氣含中的微量的氧都會(huì)使上述還原舟皿在鉬粉還原工況下會(huì)出現(xiàn)氧化皮脫落污染鉬粉,并有點(diǎn)蝕發(fā)生,嚴(yán)重者會(huì)出現(xiàn)局部穿孔。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有高純鉬粉還原方法所存在的上述不足,本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能有效地降低所得鉬粉中鐵、鎳及鉻雜質(zhì)含量的鉬粉還原方法。
本發(fā)明電子級(jí)高純鉬粉的還原制備方法,采用純度≥98%的純鉬舟皿為還原物料容器,在露點(diǎn)低于-30℃、含氧量低于0.1ppm的高純氫氣氣氛中、氫氣還原溫區(qū)為400℃~1200℃、還原高純鉬酸鹽或者鉬的氧化物,制備電子級(jí)高純鉬粉。
本發(fā)明采用純度≥98%的純鉬舟皿盛放高純鉬酸鹽或者鉬的氧化物,即便是由于氫氣中的氧以及鉬氧化物的氫氣還原反應(yīng)產(chǎn)物——水蒸氣局部含量過(guò)高,導(dǎo)致還原舟皿的局部氧化脫皮,也不會(huì)對(duì)還原所得高純鉬粉帶入雜質(zhì)。從而避免了采用鉬合金、純鎳、鎳鉻系高溫合金或不銹鋼材料舟皿盛放物料還原制備高純鉬粉過(guò)程中的鐵、鎳及鉻等雜質(zhì)元素被水蒸氣以及氫氣中的氧氧化所帶來(lái)的鉬粉的“二次污染”問(wèn)題。
本發(fā)明采用在露點(diǎn)低于-30℃、含氧量低于0.1ppm的高純氫氣氣氛中還原高純鉬酸鹽或者鉬的氧化物,制備電子級(jí)高純鉬粉。即通過(guò)控制氫氣氣氛中的水蒸氣和氧等氧化性組分含量,避免了純鉬舟皿在還原過(guò)程中的氧化“塌邊”,大大提高了高純鉬舟的使用壽命。
具體實(shí)施方式
1、采用純度為99%的純鉬舟為容器,在露點(diǎn)為-40℃、含氧量低于0.01ppm的氫氣氣氛中還原高純?nèi)趸f粉體。經(jīng)400℃和800℃兩次等溫還原所獲得鉬粉的純度≥99.99%,鐵含量≤6PPM,鎳含量≤1PPM,鉻含量≤2PPM。還原后純鉬舟皿形狀完好,舟皿未發(fā)生氧化塌邊,重量穩(wěn)定。
2、采用純度為98%的純鉬舟為容器,在露點(diǎn)為-35℃、含氧量低于0.02ppm的氫氣氣氛中還原高純?nèi)趸f粉體。經(jīng)420℃和800℃兩次等溫還原所獲得鉬的純度≥99.93%,鐵含量≤8PPM,鎳含量≤2PPM,鉻含量≤3PPM。還原后純鉬舟皿形狀完好,舟皿未發(fā)生氧化塌邊,重量穩(wěn)定。
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