[發(fā)明專利]掩模成膜方法及掩模成膜設備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710006325.0 | 申請日： | 2007-02-02 |
| 公開（公告）號： | CN101013274A | 公開（公告）日： | 2007-08-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | 畠山英之;藪修一 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G03F7/20;H05B33/00;H01L21/027;H01L21/00;C23C14/02 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 王永剛 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掩模成膜 方法 設備 | ||
【權利要求書】：
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