[發明專利]硼酸鹽和近紅外線吸收材料無效
| 申請號: | 200680003060.2 | 申請日: | 2006-01-30 |
| 公開(公告)號: | CN101107258A | 公開(公告)日: | 2008-01-16 |
| 發明(設計)人: | 伊藤彰男;石田知史;飯田俊哉;石井尊子;小林信弘 | 申請(專利權)人: | 株式會社日本觸媒 |
| 主分類號: | C07F5/02 | 分類號: | C07F5/02;C09B67/00;C09B57/00;C08L67/02;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硼酸鹽 紅外線 吸收 材料 | ||
1.一種用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其具有由下式(1)表示的陰離子:
[BR1mR24-m]-(1)
其中R1表示具有吸電子基團的芳基;R2表示有機基團、鹵素基團或羥基;m為1至4的整數。
2.根據權利要求1所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其中,式(1)中的吸電子基團是選自由-CpF2P+1(p為自然數)、-NO2、-CN、-F、-Cl和-Br組成的組中的至少一種取代基。
3.根據權利要求1或2所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其中,在式(1)中由R1表示的具有吸電子基團的芳基是具有吸電子基團的苯基。
4.根據權利要求1至3任一項所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其中,在式(1)中由R1表示的具有吸電子基團的芳基是五氟苯基。
5.根據權利要求1至4任一項所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其中,由式(1)表示的陰離子是四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子。
6.根據權利要求1至5任一項所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其包含由式(1)表示的陰離子和有機陽離子。
7.根據權利要求1至6任一項所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其包含由式(1)表示的陰離子和具有近紅外線吸收能力的陽離子。
8.根據權利要求7所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其中,該陽離子是二亞銨陽離子或基于花青染料的陽離子的至少一種。
9.根據權利要求1至8任一項所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其包含由式(1)表示的陰離子和由下式(2)表示的陽離子或基于吲哚鎓的陽離子:
其中R3至R10各自獨立地表示氫原子、鹵原子、含有1至10個碳原子的烷基,或者含有1至10個碳原子并且具有取代基的烷基。
10.根據權利要求1至6任一項所述的用于近紅外線吸收材料的硼酸鹽,其包含由式(1)表示的陰離子和具有選自銨、吡啶鎓、苯胺鎓、咪唑鎓、吡咯烷鎓和喹啉鎓的結構的陽離子。
11.一種近紅外線吸收材料,其包含權利要求1至10任一項所述的硼酸鹽和近紅外線吸收染料。
12.根據權利要求11所述的近紅外線吸收材料,其中,該近紅外線吸收染料是選自由以下物質組成的組中的至少一種物質:權利要求7至9任一項所述的硼酸鹽、基于二亞銨的染料、基于酞菁的染料、基于花青的染料、基于方酸菁的染料和基于金屬二硫醇的染料。
13.根據權利要求11或12所述的近紅外線吸收材料,其包含權利要求10所述的硼酸鹽和作為近紅外線吸收染料的至少一種權利要求7至9任一項所述的硼酸鹽。
14.根據權利要求11至13任一項所述的近紅外線吸收材料,其進一步包含選自由以下樹脂組成的組中的至少一種樹脂:通過將具有直鏈、支鏈、脂環族或多環脂環族烷基并且具有1至10個碳原子的甲基丙烯酸酯共聚得到的樹脂;玻璃化轉變溫度為65至85℃的樹脂;具有支化結構的樹脂;壓敏性粘合劑和/或粘合劑;Tg不低于-80℃且不高于0℃并且酸值不高于30的樹脂。
15.一種近紅外線吸收基材,其包含權利要求11至14任一項所述的近紅外線吸收材料。
16.一種近紅外線吸收基材,其具有布置于透明基材上的權利要求11至14任一項所述的近紅外線吸收材料。
17.根據權利要求16所述的近紅外線吸收基材,其中,該透明基材是玻璃基材、PET膜、易粘結型PET膜、TAC膜、抗反射膜或者電磁干擾屏蔽膜。
18.一種用于等離子體顯示器的濾光器,其使用權利要求15至17任一項所述的近紅外線吸收基材。
19.一種用于光學半導體元件的濾光器,其使用權利要求15至17任一項所述的近紅外線吸收基材。
20.一種等離子體顯示器,其使用權利要求11至14任一項所述的近紅外線吸收材料、權利要求15至17任一項所述的近紅外線吸收基材或者權利要求18所述的濾光器。
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