[實用新型]滾落式雙陰極平面磁控濺射金屬膜電阻鍍膜裝置無效
| 申請號： | 200420030417.4 | 申請日： | 2004-02-17 |
| 公開（公告）號： | CN2682087Y | 公開（公告）日： | 2005-03-02 |
| 發明（設計）人： | 楊金波;楊晏祺 | 申請（專利權）人： | 楊金波 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 錦州遼西專利事務所 | 代理人： | 李輝 |
| 地址： | 121000遼寧省錦州*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 滾落 陰極 平面 磁控濺射 金屬膜 電阻 鍍膜 裝置 | ||
【說明書】：
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