[發(fā)明專利]濺射沉積中硒化銀膜化學計量比和形態(tài)控制無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 03820606.4 | 申請日： | 2003-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN1871662A | 公開（公告）日： | 2006-11-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李久滔;K·哈姆普頓;A·麥克特爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 微米技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G11C11/34 | 分類號： | G11C11/34;C23C14/00;C23C14/06;C23C14/34;C23C14/54;C30B23/02 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范赤;王景朝 |
| 地址： | 美國愛*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 濺射 沉積 中硒化銀膜 化學 計量 形態(tài) 控制 | ||
【權(quán)利要求書】：
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