[其他]高強度發射裝置無效
| 申請號： | 85109598 | 申請日： | 1985-12-23 |
| 公開（公告）號： | CN85109598A | 公開（公告）日： | 1986-07-16 |
| 發明（設計）人： | 戴維·姆·卡姆;尼古拉斯;庇·哈爾平;安東尼;杰·第·豪斯頓;阿恩舍維爾 | 申請（專利權）人： | 沃泰克工業有限公司 |
| 主分類號： | H01J61/00 | 分類號： | H01J61/00;H01J61/28;H01J17/00;H01J17/02 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 關定毅,許新根 |
| 地址： | 加拿大B·C·*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 一種高強度發射源，利用渦流發生構件在電弧室內表面上形成一液體渦流壁，以限制電極間產生的電弧的直徑。該渦流發生構件包括一個液體進入電弧室前必須先經過的環形限制構件，其尺寸足以使電弧室內有足夠的壓力和速度，以減少或消除可能傳輸至電弧室內液壁的流動不規則的現象，可裝一噴嘴以產生液體和氣體所需的軸向渦流流型。鄰近電弧室的排放室均勻變細，以防止干擾流動。電極上的翅片用于減少電弧室內的反向氣體、液體流。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 強度 發射 裝置 | ||
【主權項】：
1、一種產生高強度發射的裝置，包括一細長圓柱形電弧室、同軸置于所述電弧室內的第一及第二電極構件、將液體注入所述電弧室、通過冷卻所述弧光放電的周緣集聚弧光放電的液體渦流發生構件、把渦旋運動的氣流通過所述圓柱形液壁的內部注入所述室內的構件，以及置于所述液體渦流發生構件內的環形渦流限制構件，該構件工作時，可以在所述液體注入所述電弧室時減少宏觀紊流。
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