1.提高幅面狀材料的自膠粘的表面和基底的表面之間的粘附力的方法，所述幅面狀材料以自膠粘的表面施加在該基底上，其中

將幅面狀材料連續(xù)地引導(dǎo)至層壓輥隙，在所述層壓輥隙中將表面自膠粘的幅面狀材料層壓在所述基底的表面上，

用等離子體在整個(gè)面積上處理所述幅面狀材料的自膠粘的表面和所述基底的表面，而且以這樣的方式，使得等離子體從所述層壓輥隙前方開(kāi)始連續(xù)地作用在兩個(gè)表面上直至進(jìn)入所述層壓輥隙，

所述層壓輥隙由觸壓元件和基底形成，并且

所述觸壓元件的表面裝配有電介質(zhì)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

其特征在于，

所述幅面狀材料的用等離子體處理的自膠粘的表面和/或基底的表面上的任意點(diǎn)移動(dòng)經(jīng)過(guò)從等離子體處理開(kāi)始至進(jìn)入所述層壓輥隙的路徑的時(shí)間段小于2.0s、優(yōu)選地小于1.0s、更優(yōu)選地小于0.5s。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，

其特征在于，

將第二幅面狀材料如此引導(dǎo)至所述層壓輥隙，使得所述第二幅面狀材料位于所述第一幅面狀材料和所述基底之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

除了所述第一幅面狀材料之外，還將多種另外的幅面狀材料引導(dǎo)至所述層壓輥隙，其中引導(dǎo)以如下方式進(jìn)行：使各幅面狀材料在所述第一幅面狀材料和所述基底之間進(jìn)入所述層壓輥隙，并且以這樣的方式選擇各另外的幅面狀材料，使得在所述層壓輥隙中絕不會(huì)將非膠粘性的載體層和第二非膠粘性的載體層彼此直接地層壓。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

所述觸壓元件為輥、優(yōu)選地具有在50至500mm之間的直徑，刮刀或觸壓板。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

對(duì)于所述電介質(zhì)，選擇陶瓷、玻璃、塑料、橡膠或硅酮的層。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

所述電介質(zhì)的層的厚度在1至5mm之間。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

等離子體在一個(gè)或多個(gè)噴嘴和輥之間產(chǎn)生，優(yōu)選地在用壓縮空氣或N₂操作時(shí)產(chǎn)生。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

等離子體通過(guò)具有氣體排放口的線狀電極產(chǎn)生，優(yōu)選地在所述層壓輥隙的整個(gè)長(zhǎng)度上延伸的線狀電極，并且進(jìn)一步優(yōu)選地在所述層壓輥隙的整個(gè)長(zhǎng)度上具有恒定的相對(duì)于該層壓輥隙的距離的線狀電極。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

等離子體發(fā)生器至所述層壓輥隙的處理距離為1至100mm、優(yōu)選地3至50mm、更優(yōu)選地4至20mm。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

將幅面引導(dǎo)進(jìn)所述層壓輥隙的速度在0.5至200m/分鐘之間、優(yōu)選地在1至50m/分鐘之間、更優(yōu)選地在2至20m/分鐘之間。

12.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

所述幅面狀材料為基于天然橡膠、合成橡膠或聚氨酯的壓敏膠粘劑層，其中所述壓敏膠粘劑層優(yōu)選地由純的丙烯酸酯組成或主要由丙烯酸酯組成(具有熱交聯(lián)劑體系和/或熱熔體和/或UV交聯(lián)的和/或UV聚合的)。

13.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

所述壓敏膠粘劑層形成無(wú)載體的、單層的、雙面膠帶。

14.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

將所述壓敏膠粘劑層施加在載體上，優(yōu)選地施加在膜、泡沫體、非織造物和/或織造物上，尤其有利地施加在粘彈性載體上。

15.根據(jù)前述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的方法，

其特征在于，

所述壓敏膠粘劑層或由其形成的膠帶的厚度為≥20μm、優(yōu)選地≥100μm、非常優(yōu)選地≥300μm和/或最大值≤2500、優(yōu)選地≤1500μm、更優(yōu)選地≤1000μm。